超纯水颗粒标准

Ⅰ 纯水的标准是什么是超纯净水的标准是什么

纯水和超纯水一般都没有统一的标准.是根据用户的需求来规定.
一般意义上讲纯水至少应该是去离子水,即水中大部分阴阳离子是应该被去除的.细菌、悬浮物等的含量也应是相当低的.
目前水质要求最高的超纯水是半导体行业,根据半导体芯片的大小和线径的不同水质要求也不一样,其超纯水的水质指标如下：
电阻率大于18.2兆欧（25摄氏度）；TOC（总有机碳）小于1到10ppb,DO（溶解氧）小于1到10ppb；Particle（颗粒）：0.05微米小于200个/升；离子含量大部分是小于20到50ppt；细菌检测：无.

Ⅱ 超纯水各元素的含量

既然是超纯水，那就不考虑其他杂质元素。就只考虑组成水的两种元素。分别是氢元素和氧元素。然后由于水的化学式是H2O占比就是1:8

Ⅲ 超纯水的基本概况

超纯水处理是指下列杂质含量极低的水：
①无机电离杂质，如 Ca2+、Mg2+、Na+、K+、Fe2+、Fe3+、Mn2+、Al3+、HCO-、CO32-、SO42-、Cl2、NO3-、NO2-、SiO32-、PO43-等；
②有机物，如烷基苯磺酸、油、有机铁、有机铝以及其他碳氢化合物等；
③颗粒，如尘埃、氧化铁、铝、胶体硅等；
④微生物，如细菌、浮游生物和藻类等；
⑤溶解气体，如N2、O2、CO2、H2S等。超纯水中电离杂质的含量用水的电阻率数值来衡量。理论上，纯水 中只有H离子和OH离子参加导电。在25℃时超纯水的电阻率为 18.3（兆欧·厘米），一般约为15～18（兆欧·厘米）。
超纯水中有机物含量由测定有机物碳含量而定，电子工业超纯水中规定含量为50～200微克/升，并要求直径大于1微米的颗粒性物质每1毫升内含量为1～2个，微生物每1毫升为0～10个。现代采用预处理、电渗析、紫外线杀菌、反渗透、离子交换、超滤和各种膜过滤技术等，使超纯水的电阻率在25℃时达到18（兆欧·厘米）。
依各种原水水质和用户要求的不同，超纯水的制备工艺大体可分为预处理、脱盐和精处理三步。 超纯水，主要工艺流程
⒈预处理----复床 ----混床---抛光树脂
⒉预处理----反渗透---混床---抛光树脂
⒊预处理----反渗透----CEDI膜块----抛光树脂
传统超纯水制取设备工艺流程：原水—多介质过滤器—活性炭过滤器—一级除盐—混床—超纯水
膜法超纯水制取设备工艺流程：原水—超滤—反渗透—EDI—超纯水
在膜法工艺中，超滤，微滤替代澄清，石英砂过滤器，活性炭过滤器，除去水中的悬浮物胶体和有机物，降低浊度，SDI，COD等，可以实现反渗透装置对污水回用的安全，高效运行，以反渗透替代离子交换器脱盐，进一步除去有机物，胶体，细菌等杂质，可以保证反渗透出水满足EDI进水的要求，以EDI代替混床深度脱盐，利用电而不是酸碱对树脂再生，避免了二次污染。 中国国家实验室分析用水标准（GB6682-92）《分析实验室用水规格和实验方法》： 指标名称 一级水 二级水 三级水 1级水>10MΩ 2级水>1MΩ 3级水>0.2MΩ PH值范围（25℃） -- -- 5.0-7.5 比电阻MΩ.cm（25℃）> 10 1 0.2 电导率（25℃）≤ 0.1 1 5 可氧化物[以O计]mg/L -- 0.08 0.40 吸光度（254nm,1cm光程）≤ 0.001 0.01 -- 二氧化硅（mg/L） 0.02 0.05 -- 蒸发残渣（mg/L） -- 1.0 2.0

Ⅳ 纯水,超纯水,纯化水的水质一般以电阻率为多少 谁知道的说说,

纯水的电阻率一般在10MΩ.CM以下,
10MΩ.cm \15MΩ.cm\18MΩ.CM等为超纯水,超纯水最高标准为18.25MΩ.CM.
纯化水一般以电导率为单位,2010版药典标准要求电导率 ≤2μS/cm (电阻率≥0.5 MΩ.CM)
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Ⅳ 中国电子行业超纯水国家标准

超纯水系统执行标准
GB/T11446.1-1997-中国电子行业超纯水国家标准
欧盟电内子级超纯水标准
美容国ASTM-1997E电子行业超纯水标准
GMP药典标准2010
其他标准均符合各行业清洗用水下属内控用水标准

Ⅵ 纯水的分级标准

实验室纯水可分为个常规等级：纯水、去离子水、实验室Ⅱ级纯水和超纯水。纯水：纯化水平最低，通常电导率在它可经由单一弱碱性阴离子交换树脂、反渗透或单次蒸馏制成。典型的应用包括玻璃器皿的清洗、高压灭菌器、恒温恒湿实验箱和清洗机用水。去离子水：电导率通常在用含强阴离子交换树脂的混床离子交换制成，但它有相对较高的有机物和细菌污染水平，能满足多种需求，如清洗、制备分析标准样、制备试剂和稀释样品等。 实验室Ⅱ级纯水：电导率总有机碳含量以及细菌含量有相关规定。其水质可适用于多种需求，从试剂制备和溶液稀释，到为细胞培养配备营养液和微生物研究。这种纯水可双蒸而成，或整合和离子交换多种技术制成，也可以再结合吸附介质和灯。 超纯水：这种级别的纯水在电阻率、有机物含量、颗粒和细菌含量方面接近理论上的纯度极限，通过离子交换、膜或蒸馏手段预纯化，再经过核子级离子交换精纯化得到超纯水。通常超纯水的电阻率可达18.2M，滤除甚至更小的颗粒。超纯水适合多种精密分析实验的需求，如高效液相色谱，离子色谱和离子捕获－质谱。少热源超纯水适用于像真核细胞培养等生物应用，超滤技术通常用于去除大分子生物活性物质，如热源以及无法检测到的核酸酶和蛋
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Ⅶ 超纯水水质标准

超纯水是为了研制超纯材料（半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等）应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水，其电阻率大于18 MΩ*cm，或接近18.3 MΩ*cm极限值（25℃）。简单得说就是几乎去除氧和氢以外所有原子的水。这样的水是一般工艺很难达到的程度，理论上可以采用二级反渗透再经过串联的混合型交换树脂柱对二次反渗水进行处理，但是交换树脂的再生不便，质量难以保证。

制备
在原子光谱、高效液相色谱、超纯物质分析、痕量物质等的某些实验中，需要用超纯水，超纯水的制备如下：

（1）加入少量高锰酸钾的水源，用玻璃蒸馏装置进行二次蒸馏，再以全石英蒸馏器进行蒸馏，收集于石英容器中，可得超纯水。

（2）使用强酸型阳离子和强碱型阴离子交换树脂柱的混合床或串联柱。可充分除去水中的阳、阴离子，其电阻率达10 Q·cm的水，俗称去离子水，再用全石英蒸馏器进行蒸馏，收集可得超纯水。

应用
超纯水可以在以下领域使用：

（1）电子、电力、电镀、照明电器、实验室、食品、造纸、日化、建材、造漆、蓄电池、化验、生物、制药、石油、化工、钢铁、玻璃等领域。

（2）化工工艺用水、化学药剂、化妆品等。

（3）单晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装 、引线柜架、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、显像管、线路板、光通信、电脑元件 、电容器洁净产品及各种元器件等生产工艺。

（4）高压变电器的清洗等

Ⅷ 实验室超纯水设备的水质参数

BasicMidHigh超纯水电阻率 18.25MΩNaN 18.25MΩNaN 18.25MΩNaN 纯水电导率 1-5μs/cm 1-5μs/cm 1-5μs/cm 总有机碳(TOC)(经DP——RO) <10ppb <5ppb <1-3ppb 细菌 <1CFU/ml <1CFU/ml <0.1CFU/ml 细菌内毒素版 - - <0.001EU/ml 颗粒物质（0.2μm）权 <1个/ml <1个/ml <1个/ml 无机物离子去除率 ≥99.5% ≥99.5% ≥99.5% 重金属离子 ≤0.1ppb ≤0.1ppb ≤0.1ppb 硅去除率 >99% >99% >99%

Ⅸ 食品行业用超纯水设备，EDI进水标准

水源：（二级）反渗透RO产水，电导率1-10us/cm，最大电导率≤25us/cm（NaC1）
PH值：版7.0-8.5（pH7.0-8.0之间EDI可有最佳电阻权率性能）
温度：15℃--35℃，（EDI最佳温度在25℃）
进水压力（Dw）：0.15-0.4MPa
浓水进水压力（Cns）：比Ds端压力低0.06-0.1MPa（必须）
产水压力（Dour）：0.05-0.20MPa
浓水出水压力（Cour）：比Dor端压力低0.05-0.1MPa（必须）
进水硬度：<0.5ppm（碳酸钙计）进水有机物：TOC<0.5ppm
进水氧化剂：C12（活性）<0.03ppm，0。（臭氧）<0.02ppm，Ho.（羟基氧）<0.02ppm
进水重金属离子：Fe、Mn、变价性金属离子<0.01ppm
进水硅：Si0₂<0.5ppm（反渗透RO产水典型范围是50-150ppb）
进水总CO2：<3ppm
进水颗粒度：<1um