① 金属氧化物对反渗透的影响
反渗透膜进水的水质要求:
泥密度指数(SDI值)<4.0 4、浊度(NTU)<1.0 100T/h单级反渗透设备方案5、有机物含量(COD，mg/L)<1.5 6、余氯含量(mg/L)L)：溶氧>5mg/L时，Fe<0.05 8、SiO2(mg/L)：浓水中SiO2<100 9、LSI：pHb-pHs<0 10、Sr、Ba等易形成难溶盐的离子：Ipb<0.8Ksp 后三项通过添加阻垢剂可适返裂洞当提高其值。如果上述指标某一项或几项不达标时，会对反渗透膜造成以下影响 1、RO反渗透膜结源唤垢 2、RO反渗透膜受金属氧化物污染 3、悬浮物污堵RO反渗透膜 4、胶体污漏枯染 5、有机物及微生物等污染，导致出水COD升高。
② 水中哪些成分，对反渗透膜原件有损害
自来水因为消毒而被氯化过，因此水处理反渗透前必须安装活性炭过滤器或投加还专原剂以去属除水中的余氯，本反渗透水处理系统的膜为聚酰胺类复合膜，如果原水中存在游离氯，膜就会受到不可恢复的损害。
水处理设备的额定产水量是在原水水温为25℃的情况下设定的，反渗透水处理系统的产水量随原水水温降低而下降。一般情况下，水温每降低1℃，产水量将下降3 %。
③ 反渗透膜清洗方法有哪些
反渗透膜清洗方法：1、1%-2%柠檬酸溶液或0.4%HCl溶液，适用于铁污染及碳酸盐结晶污堵；2、0.2%NaClO+0.1%NaOH溶液，适用于清洗由有机物及活性生物引起的超滤膜组件的污染；3、0.3%H2O2+0.3%NaOH溶液，适用于清洗由谷氨酸发酵液引起的超滤膜组件的污染；4、1%甲醛溶液，适用于细菌污染的超滤。
反渗透膜清洗力度要视工作量、污垢量、周期而定，短周期运行进行一般的低压清理即可，保证压力容器水质新鲜，清洗半个小时即可，称为物理清洗；而长周期运行，且工作强度较高的反渗透系统就要添加药剂进行系统的清洗和维护，称为化学清洗。化学清洗一般用到的药剂有柠檬酸溶液、柠檬酸铵溶液、加酶洗涤剂、浓盐水等。
清洗步骤流程
1、彻底清洗药液箱。
2、安装干净滤芯、过滤器。
3、药液倒入药液箱，循环清洗药液经过滤器返回至清洗药液箱，并加热清洗。
4、注意洗液PH值，适合的范围在2.0-3.5之间，并记录反渗透产品水侧和浓缩水侧的PH值。
5、反渗透设备水管连接清洗系统进行反渗透的第一级清洗，缓慢开启清洗泵，观察排出水为清洗液时，将浓水管路连接回清洗系统；开始循环清洗30分钟，再浸泡30分钟，其次再循环清洗15分钟结束。
6、反渗透膜其它段的清洗重复步骤5即可，直致所有反渗透所有组件清洗完毕。
④ 反渗透进水中铁离子对反渗透膜的影响有多大
金属化合物污染主要是金属氧化物、金属氢氧化物等，尤其以铁污染为主。发生的专原因主要
是预处理属缺陷、管路锈蚀等，其症状是产水量和脱盐率下降，膜元件压差增大，可按照以下配方
进行清洗：
主要污染物质 推荐清洗液 备注
金属化合物 1.0% 焦亚硫酸钠 Na2S2O5，pH＝5，最高温度30℃
2.0％ 柠檬酸 C6H8O7，pH＞2，最高温度45℃
进行清洗必须使用RO膜厂家规定的流程!!!
⑤ 反渗透膜结垢的原因是什么如何防止
在系统正常运行一段时间后，反渗透膜元件会受到给水中可能存在内的悬浮物或容难溶盐的污染，这些污染中最常见的是碳酸钙沉淀、硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶沉淀、金属（铁、锰、铜、镍、铝等）氧化物沉淀、硅沉积物、无机或有机沉积混合物、NOM天然有机物质、合成有机物（如：阻垢剂/分散剂，阳离子聚合电解质）、微生物（藻类、霉菌、真菌）等。
物理清洗膜元件：低压力、高流速的将反渗透产水来冲刷膜元件，可以把短期内在膜表面附着的污染物和堆积物清洗掉的一种有效方法。一般物理清洗频率较高。
化学清洗膜元件：有些结垢情况通过物理清洗很难去除附着在膜元件表面的污染物和堆积物。这个时候就需要通过化学药剂来对结垢进行去除。为了能够达到最佳的清洗效果一般都是通过多种化学清洗药剂进行组合清洗。而且药剂的选择以及清洗顺序也是有严格要求的。
详细预防方法可见官网：网页链接
⑥ 反渗透膜污染物成分是什么
膜污染是指被处理深液中的微粒、胶体粒子或溶质与膜发生相互作用，或因浓差极化使某些物质在膜表面浓度而引起这些物质在水流通道、膜表面或膜孔内吸附、沉积，造成孔道或水流通道变小或堵塞的现象。
污染物类型：水源不同，污染物类型不同，污染物类型不同，则清除污染物的方法也不一样。
一、悬浮固体
悬浮固体普通存在于地表水中，颗料直径>1um，如砂、粘泥、SIO2颗料等，水流处理于停止状态时可以沉积下来，它很容易被反渗透系统设置的细砂过滤器或多介质过滤器滤除，经过预处理后，下列指标必须符合：浊度<1NTU，15分钟SDI值<5。
二、胶体污染物
胶体物普遍存在于地表水中，主要是铝类的粘土，如硅酸化合物，铁铝氧化物、硫化物、单宁酸、腐殖质等，这类胶体颗料大小在0.3~1.0um范围,带负电荷，单用过滤无法除去，帮采用凝聚，过滤或直流混凝方法，使胶体颗料增大至10-20um过滤除去，当悬浮物胶体含量过多时，还需凝聚、澄清、过滤。
三、有机物污染
有机物对膜污染是复杂的，其主要为腐殖类物质，凝聚澄清和活性碳过滤都仅能除去都分有机物;也可以采用超滤除去有机物。
四、生物污染
该类污染通常为细菌、生物膜、藻类和真菌。细菌会以醋酸纤维为食物，因而醋酸膜易受细菌的侵蚀;对于复合膜，虽不易被细菌侵害，但细菌粘膜会造成膜的污堵。进行反渗透工艺系统设计时，必须控制生物活性，原水细菌含量在10000CFU/CM以上时就必须考虑去除措施。膜污染通常为混合型，污染物是多种成分的混合物。
一般从被污染的膜元件的浓水隔网和膜表面取样分析污染物成分，浓水隔网的低流速区最易沉积体积较大的污染物，包括CACO3晶粒、生物膜、网状有机薄膜、微粒、胶体和絮凝剂。这些污物将导致系统压力升高和产水量降低。
膜表面上的污染物通常为紧密附着的硅酸化合物、硫酸盐、聚合物、有机物、金属氧化物和氢氧化物等污染物。这些污堵导致产水率降低和脱盐率的下降。
⑦ 反渗透膜性能损坏主要是什么造成的
反渗透膜如果得不到及时的清洗或清洗方法不当时，其性能会受到损坏。版
设备在运行过程权中，除了正常的性能衰减外，因有机物、化学垢及微生物等污染而导致的性能损坏是较为严重。经研究发现，污染时间长短不同其症状也不一样。以碳酸钙垢污染为例，当污染时间为一周时，脱盐率迅速下降，压力差会随之慢慢增大，对产水量没有太大影响，此时可选择用柠檬酸进行清洗。
如果次污染延长到一年的时间，将严重影响产水量，且盐通量会大大增加。再者，要综合原水水质、污染指数、设备性能变化等多种因素去鉴别污染的类型。
当前处理中微滤器很快被堵塞或压力差很快增加时，很可能是发生了胶体污染。RO设备的透过水和浓缩水中的细菌总数都比较高时，很可能是受到了微生物污染，这种现象一般都是由于平时保养和消毒不及时或操作不当引起的。
⑧ 反渗透进水中铁离子对反渗透膜的影响有多大
当原水含有超过0.5ppm的铁离子时，基于经济上的考量并不建议使用抑垢剂。或应在前处理增设除铁系统，先行除去铁份。ii. 必须慎选正确的抑垢剂，当原水含有铁或铝(来自PAC)时，不得使用仅含阴离子性高分子的分散剂，因其会与上述二项多价键离子反应，而造成膜管的淤塞。
⑨ 铁锰氧化之后进入反渗透膜怎么清洗
反渗透膜正常运行一段时间后，反渗透膜元件会受到给水中可能存在悬浮物或难溶盐的污染，这些污染中最常见的碳酸钙沉淀、硫酸钙沉淀、金属(铁、锰、铜、镍、铝等)氧化物沉淀、硅沉积物、无机或有机沉积混合物、NOM天然有机物质、合成有机物(如：阻垢剂/分散剂，阳离子聚合电解质)微生物藻类、霉菌、真菌)等污染。污染性质和污染速度取决于各种因素，如给水水质和系统回收率。通常污染是渐进发展的,如不尽早控制，污染将会在相对较短的时间内损坏膜元件。当膜元件确证已被污染，或是临时停机之前，或是作为定期日常维护，建议对膜元件进行清洗。当反渗透系统（或装置）出现以下症状时，需要进行化学清洗或物理冲洗：正常给水压力下，产水量较正常值下降10-15%,为维持正常的产水量，经温度校正后的给水压力增加10-15%,产水水质降低10-15%,透盐率增加10-15%,给水压力增加1015%,系统各段之间压差明显增加。
已受污染的反渗透膜的清洗周期根据现场实际情况而定。正常的清洗周期是每3-12个月一次。当膜元件仅仅是发生了轻度污染时，重要的清洗膜元件。重度污染会因阻碍化学药剂深入渗透至污染层，影响清洗效果。
清洗何种污染物以及如何清洗要根据现场污染情况而进行。对于几种污染同时存在复杂情况，清洗方法是采用低PH和高PH清洗液交替清洗（应先低PH后高PH值清洗）
污染物情况分析:1碳酸钙垢：碳酸钙垢是一种矿物结垢。当阻垢剂/分散剂添加系统出现故障时，或是加酸pH调节系统出故障而引起给水pH增高时，碳酸钙垢有可能沉积出来。尽早地检测碳酸钙垢，对于防止膜层表面沉积的晶体损伤膜元件是极为必要的早期检测出的碳酸钙垢可由降低给水的pH值至3-5运行1-2小时的方法去除。对于堆积时间长的碳酸钙垢，可用低pH值的柠檬酸溶液清洗去除。2硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶垢：硫酸盐垢是比碳酸钙垢硬很多的矿物质垢，且不易去除。硫酸盐垢可在阻垢剂/分散剂添加系统出现故障或加硫酸调节pH时沉积出来。尽早地检测硫酸盐垢对于防止膜层表面沉积的晶体损伤膜元件是极为必要的硫酸钡和硫酸锶垢较难去除，因为它几乎在所有的清洗溶液中难以溶解，所以，应加以特别的注意以防止此类结垢的生成。3金属氧化物/氢氧化物污染：典型的金属氧化物和金属氢氧化物污染为铁、锌、锰、铜、铝等。这种垢的形成导因可能是装置管路、容器(罐/槽)腐蚀产物，或是空气中氧化的金属离子、氯、臭氧、钾、高锰酸盐，或是由在预处置过滤系统中使用铁或铝助凝剂所致。4聚合硅垢：硅凝胶层垢由溶解性硅的过饱和态及聚合物所致，且非常难以去除。需要注意的这种硅的污染不同于硅胶体物的污染。硅胶体物污染可能是由与金属氢氧化物缔合或是与有机物缔合而造成的硅垢的去除很艰难，可采用传统的化学清洗方法。现有的化学清洗药剂，如氟化氢铵，已在一些项目上得到胜利的使用，但使用时须考虑此方法的操作危害和对设备的损坏，加以防护措施。5胶体污染：胶体是悬浮在水中的无机物或是有机与无机混合物的颗粒，不会由于自身重力而沉淀。胶体物通常含有以下一个或多个主要组份，如：铁、铝、硅、硫或有机物。6非溶性的天然有机物污染(NOM),非溶性天然有机物污染(NOMNaturOrganicMatter)通常是由地表水或深井水中的营养物的分解而导致的有机污染的化学机理很复杂，主要的有机组份或是腐植酸，或是灰黄霉酸。非溶性NOM被吸附到膜表面可造成RO膜元件的快速污染，一旦吸收作用发生，渐渐地结成凝胶或块状的污染过程就会开始。7微生物堆积：有机堆积物是由细菌粘泥、真菌、霉菌等生成的这种污染物较难去除，尤其是给水通路被完全堵塞的情况下。给水通路堵塞会使清洁的进水难以充分均匀的进入膜元件内。为抑制这种沉积物的进一步生长，重要的不只要清洁和维护RO系统，同时还要清洁预处理、管道及端头等。对膜元件采用氧化性杀菌时，使用认可的杀菌剂。
清楚污染物惯例清洗液介绍1.[溶液1]2.0%W柠檬酸(C6H8O7低pH)pH值为3-4清洗液。以于去除无机盐垢(如碳酸钙垢、硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶垢等)金属氧化物/氢氧化物(铁、锰、铜、镍、铝等)及无机胶体十分有效。
2.[溶液2]0.5%W盐酸低pH清洗液(pH为2.5)主要用于去除无机物垢(如碳酸钙垢、硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶垢等)金属氧化物/氢氧化物(铁、锰、铜、镍、铝等)及无机胶体。这种清洗液比溶液1要强烈些，因为盐酸(HCl)为强酸。3[溶液3]0.1%W氢氧化钠高pH清洗液(pH为11.5）用于去除聚合硅垢。这一洗液是一种较为强烈的碱性清洗液。4.[溶液4]氢氧化钠-EDTA四钠-六偏磷酸钠清洗液。
清洗步骤：先用杀菌剂如1227清洗，再用溶液1清洗，再用溶液4清洗，最后用水冲洗至中性，所用水应为反渗透产水。