离子去渍原理

❶ 洗衣粉的去污原理是什么

洗衣粉的去污原理是含有活性成分，洗涤活性成分它的作用就是减弱污渍与衣物间的附着力，在洗涤水流以及手搓或洗衣机的搅动等机械力的作用下，使污渍脱离衣物，从而达到洗净衣物的目的。

从构成来讲，表面活性剂分子具有典型的两端结构：一端是亲水而憎油的基团，该基团易溶于水，被称为亲水基；另一端是亲油而憎水的基团，该基团不溶于水而溶于油，被称为憎水基。当表面活性剂溶于水时，在水面上，表面活性剂分子的亲水基在水侧，而憎水基则被排斥在水的外面，形成定向排列的表面活性剂分子。

这种表面活性剂分子的定向排列，削弱了表面水分子之间的引力，可以强烈降低水的表面张力，从而增加水对衣服的润湿渗透，同时可以促丛配使污渍分散乳化，从衣服表面脱落下来。水的表面被占满后，水的表面张力降到了最低。

当表面活性剂在水表面排满后，其它表面活性剂分子就进入溶液，形成胶束。胶束是无数个表面活性剂分子聚集在一起，形成球状或棒状，它的排列也是非常有序的，一律是亲水基团朝外，亲油基团朝里的定向排列。

在洗涤衣物时，通过机械搓揉和水的冲刷，表面活性剂分子中憎水基团（亲油）将油污润湿溶解，并分散成细小的乳浊液，进入胶束内部，这样衣服的污渍就掉了下来。

表面上看是水把污渍溶解了，其实是污渍被表面活性剂分子润湿分散，以乳浊液形式进入由表面活性剂分子包围的稳定胶束中了。最后经清水漂洗，污渍就乖乖地随水溜走了。

表面上看渗凯指，是水对污渍的溶解度增加，实质上是表面活性剂分子的功用——增溶作用，提高洗涤效果；另外，有些表面活性剂还有发泡作用，这些协同效果共同发挥作用，都是为了降低污渍与衣物之间的结合力，再在水流和外力作用下将衣物洗净。

(1)离子去渍原理扩展阅读

洗衣粉主要成分有：织物纤维防垢剂、阴离子表面活性剂、非离子表面活性剂、水软化剂、污垢悬浮剂、酶、荧光剂及香料等；较差的洗衣粉常含有磷、铝、碱等有害成分。

表面活性剂在洗衣粉中的作用是使洗衣粉有可溶、乳化、浸透、洁净、杀菌、柔化、起泡、防止衣物静电等功能。合成的表面活性剂很早就被人们发现有使手变粗等副作用孙誉，现已被视为污染环境的一大公害。另外，磷、铝碱，尤其是磷在一些发达国家已被禁止使用在洗衣粉中。

❷ 除水垢的原理是什么

含有钙(Ca)镁(Mg)盐类等矿物质的水叫做“硬水”。河水、湖水、井水和泉水都是硬水。自来水是河水、湖水或者井水经过沉降，除去泥沙，消毒杀菌后得到的，也是硬水。刚下的雨雪，水里不含矿物质，是“软水”。水烧开后，一部分水蒸发了，本来不好溶解的硫酸钙(CaSO4,石膏就是含结晶水的硫酸钙）沉淀下来。原来溶解的碳酸氢钙(Ca(HCO3)2）和碳酸氢镁（Mg(HCO3)2)，在沸腾的水里分解，放出二氧化碳(CO2)，变成难溶解的碳酸钙(CaCO3)和氢氧化镁（Mg(OH)2)也沉淀下来。这就是水垢的来历。 用硬水洗衣服的时候，水里的钙镁离子和肥皂结合，生成了脂肪酸钙和脂肪酸镁的絮状沉淀，这就是“豆腐渣”的来历。在硬水里洗衣服，浪费肥皂。水壶里长了水垢，不容易传热，浪费燃料。这些对于一个家庭来说，浪费还不算严重。对于工厂来说，问题就大啦。工厂供暖供汽用的大锅炉，有的每小时要送出好几吨蒸汽，相当于烧干几吨水。据试验，一吨河水里大约有1．6公斤矿物质；而一吨井水里的矿物质高达30公斤左右。一天输送几十吨蒸汽，硬水在锅炉内壁沉积出的水垢数量，又该多么惊人！大锅炉里结了水垢，好比锅炉壁的钢板和水之间筑起一座隔热的石墙。锅炉钢板挨不着水，炉膛的火一个劲地把钢板烧得通红。这时候，如果水垢出现裂缝，水立即渗漏到高温的钢板上，急剧蒸发，造成锅炉内压力猛增，就要发生爆炸。锅炉爆炸的威力，不亚于一颗重磅炸弹！可见水垢的危害，决不能等闲视之！因此，在工厂里，往往在水里加入适量的碳酸钠（俗名苏打），使水中的钙镁盐类变成沉淀除去，水就变成了软水。使硬水通过离子交换树脂，也能除去其中的矿物质，得到软水。家里的水壶、暖水瓶里长了水垢，怎么清除干净呢？ 小心地将水壶烧到刚刚要干，立即浸到凉水里。这一热一冷，由于铝和水垢热胀冷缩的程度不同，水垢就会碎裂，从壶壁上籁籁落下。水垢的主要成分是碳酸钙、氢氧化镁，它们可以和酸起化学变化。根据这个道理，在水壶里倒些食醋（主要成分CH3COOH，有机酸-醋酸），在火上温热一下，只见水垢上放出密密麻麻的小气泡，水垢便粉碎了。用稀盐酸（HCl,一种强酸)也能除水垢。稀盐酸“消化”碳酸钙的能力比食醋强，不过，操作起来要十分小心，别让盐酸把手也腐蚀坏了。要知道，盐酸和铝(Al)很容易起反应。如果是搪瓷水壶，搪瓷又未脱落，用稀盐酸除水垢当然好。暖水瓶里的水垢这样除去，更没问题了。

❸ 谁能说说plasma离子清洗机的工作原理

等离子清洗机 工作原理分析：
电浆与材料表面可产生的反应主要有两种，一种是靠自由基来做化学反应，另一种则是靠等离子作物理反应，以下将作更详细的说明。
（1）化学反应（Chemical reaction）
在化学反应里常用的气体有氢气（H2）、氧气（O2）、甲烷（CF4）等，这些气体在电浆内反应成高活性的自由基，其方程式为：
这些自由基会进一步与材料表面作反应。
其反应机理主要是利用等离子体里的自由基来与材料表面做化学反应，在压力较高时，对自由基的产生较有利，所以若要以化学反应为主时，就必须控制较高的压力来近进行反应。
（2）物理反应（Physical reaction）
主要是利用等离子体里的离子作纯物理的撞击，把材料表面的原子或附着材料表面的原子打掉，由于离子在压力较低时的平均自由基较轻长，有得能量的累积，因而在物理撞击时，离子的能量越高，越是有的作撞击，所以若要以物理反应为主时，就必须控制较的压力下来进行反应，这样清洗效果较好，为了进一步说明各种设备清洗的效果。

等离子体清洗机的机理，主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。就反应机理来看，等离子体清洗通常包括以下过程：无机气体被激发为等离子态；气相物质被吸附在固体表面；被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子；产物分子解析形成气相；反应残余物脱离表面。

等离子体清洗技术的最大特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。

等离子体清洗还具有以下几个特点：容易采用数控技术，自动化程度高；具有高精度的控制装置，时间控制的精度很高；正确的等离子体清洗不会在表面产生损伤层，表面质量得到保证；由于是在真空中进行，不污染环境，保证清洗表面不被二次污染。

2.等离子清洗机的清洗分类：

2.1 反应类型分类
等离子体与固体表面发生反应可以分为物理反应（离子轰击）和化学反应。物理反应机制是活性粒子轰击待清洗表面，使污染物脱离表面最终被真空泵吸走；化学反应机制是各种活性的粒子和污染物反应生成易挥发性的物质，再由真空泵吸走挥发性的物质。
以物理反应为主的等离子体清洗，也叫做溅射腐蚀（SPE）或离子铣（IM），其优点在于本身不发生化学反应，清洁表面不会留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化学纯净性，腐蚀作用各向异性；缺点就是对表面产生了很大的损害，会产生很大的热效应，对被清洗表面的各种不同物质选择性差，腐蚀速度较低。以化学反应为主的等离子体清洗的优点是清洗速度较高、选择性好、对清除有机污染物比较有效，缺点是会在表面产生氧化物。和物理反应相比较，化学反应的缺点不易克服。并且两种反应机制对表面微观形貌造成的影响有显著不同，物理反应能够使表面在分子级范围内变得更加“粗糙”，从而改变表面的粘接特性。还有一种等离子体清洗是表面反应机制中物理反应和化学反应都起重要作用，即反应离子腐蚀或反应离子束腐蚀，两种清洗可以互相促进，离子轰击使被清洗表面产生损伤削弱其化学键或者形成原子态，容易吸收反应剂，离子碰撞使被清洗物加热，使之更容易产生反应；其效果是既有较好的选择性、清洗率、均匀性，又有较好的方向性。
典型的等离子体物理清洗工艺是氩气等离子体清洗。氩气本身是惰性气体，等离子体的氩气不和表面发生反应，而是通过离子轰击使表面清洁。典型的等离子体化学清洗工艺是氧气等离子体清洗。通过等离子体产生的氧自由基非常活泼，容易与碳氢化合物发生反应，产生二氧化碳、一氧化碳和水等易挥发物，从而去除表面的污染物。

2.2 激发频率分类
等离子态的密度和激发频率有如下关系：
nc=1.2425×108v2
其中nc为等离子态密度（cm-3），v为激发频率（Hz）。
常用的等离子体激发频率有三种：激发频率为40kHz的等离子体为超声等离子体，13.56MHz的等离子体为射频等离子体，2.45GHz的等离子体为微波等离子体。
不同等离子体产生的自偏压不一样。超声等离子体的自偏压为1000V左右，射频等离子体的自偏压为250V左右，微波等离子体的自偏压很低，只有几十伏，而且三种等离子体的机制不同。超声等离子体发生的反应为物理反应，射频等离子体发生的反应既有物理反应又有化学反应，微波等离子体发生的反应为化学反应。超声等离子体清洗对被清洁表面产生的影响最大，因而实际半导体生产应用中大多采用射频等离子体清洗和微波等离子体清洗

❹ 洗衣机银离子是什么原理

银离子的除菌原理为Ag离子强烈地吸引细菌中蛋白酶上的巯基，迅速与其结合在一起，导致细菌的蛋白酶瞬间丧失活性，无法呼吸，迅速死亡，而且Ag离子杀死细菌后，再接触其他菌落，达到持久除菌的目的。

银离子系统，通过洗衣机进水阀系统进水，水槽内迅速积满水，银片通电后就能产生银离子，在银片通电过程中，水流循环冲击银片，不停地将带银离子的水通过水槽下盖的喷淋口流进洗衣机桶内，不仅能够提高衣物洗涤后的清洁度，而且还能对衣物起到消毒除菌的作用。

(4)离子去渍原理扩展阅读

溶液中由银离子光催化反应产生的活性氧基（·OH）即羟自由基进行了测定，结果显示，光照射下溶液中产生活性氧基（·OH）。羟基自由基（·OH）有高达2.8V的氧化电子，高于臭氧、二氧化氯等，其氧化能力极强，具有极好的杀菌功能。

溶液中活性氧基（·OH）和银离子各自攻击微生物细胞，破坏细胞壁（或细胞膜）以及细胞内酶、线粒体等，细胞或细胞膜发生变形、凹陷，失去活性，从而使溶液显示强大的除菌力。更令人神奇的是，由于羟基自由基能迅速将菌种细胞结构破坏掉，从而对杀死毛廯菌、白色念珠球菌等真菌更为有效。

❺ 等离子表面处理是什么原理

中性粒子的温度接近室温，这些优点为热敏性高分子聚合物表面改性提供了适宜的条件。通过低温等离子体表面处理，材料表面发生多种的物理、化学变化，或产生刻蚀而粗糙，或形成致密的交联层，或引入含氧极性基团，使亲水性、粘结性、可染色性、生物相容性及电性能分别得到改善。

❻ 等离子清洗机的清洗原理

等离子清洗机的清洗原理是在真空腔体里，通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面，以达到清洗目的。

在这种情况下，等离子处理可以产生以下效果：

1、灰化表面有机层

污染物在真空和瞬时高温下的部分蒸发，污染物被高能离子粉碎并被真空带走。

紫外辐射破坏污染物，由于等离子体处理每秒钟只能穿透几纳米，所以污染层不应该太厚。指纹也适用。

2、氧化物去除

这种处理包括使用氢或氢和氩的混合物。有时也采用两步流程。第一步是用氧气氧化表面5分钟，第二步是用氢和氩的混合物除去氧化层。它也可以同时用几种气体处理。

3、焊接

通常，印刷电路板应在焊接前用化学药剂处理。焊接后，这些化学物质必须用等离子体法去除，否则会引起腐蚀和其他问题。

(6)离子去渍原理扩展阅读

等离子清洗/刻蚀机产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电场，用真空泵实现一定的真空度，随着气体愈来愈稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长。

受电场作用，它们发生碰撞而形成等离子体，这些离子的活性很高，其能量足以破坏几乎所有的化学键，在任何暴露的表面引起化学反应，不同气体的等离子体具有不同的化学性能，如氧气的等离子体具有很高的氧化性，能氧化光刻胶反应生成气体，从而达到清洗的效果；腐蚀性气体的等离子体具有很好的各向异性，这样就能满足刻蚀的需要。

利用等离子处理时会发出辉光，故称之为辉光放电处理。

等离子体清洗技术的最大特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚酯、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。