半导体高纯水是什么

① 超纯水指的是什么水

超纯水指的是电阻率达到18 MΩ＊cm（25℃）的水。

超纯水指的是纯度极高的水。这是一种工业用水，集成电路工业中用于半导体原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制备和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固态电子器件、厚膜和薄膜电路、印刷电路、真空管等的制作也都要使用超纯水。

用途

纯度极高的水。集成电路工业中用于半导体原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制备和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固态电子器件、厚膜和薄膜电路、印刷电路、真空管等的制作也都要使用超纯水。

超纯水，是一般工艺很难达到的程度，采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理四大步骤，多级过滤、高性能离子交换单元、超滤过滤器、紫外灯、除TOC装置等多种处理方法，电阻率方可达18。

② 半导体超纯水设备电去离子（EDI）系统的工作原理

电去离子（EDI）系统，一种利用直流电场与隔板结合，对水质进行净化的技术。这一过程在一对电极之间进行，以阴阳膜和隔板组成浓室与淡室，通过膜的选择性渗透实现离子的定向移动。淡室中，阳离子移动至负极透过阳膜，被浓室中阴膜截留；阴离子移动至正极透过阴膜，同样被浓室中阳膜截留。随着淡水在淡室中离子逐渐减少，浓度提升，而浓水中离子浓度不断上升，成为浓缩水，以此方式达到水净化的目的。

EDI系统通过阳膜和阴膜的特性，实现对水中离子的高效分离。阳膜允许阳离子通过，而阴膜则允许阴离子通过，通过这一机制，系统能够将水中的离子逐一筛选，从而实现水质的提纯。在EDI系统中，离子在电场作用下发生定向迁移，通过膜的选择性渗透作用，实现了对水中离子的分离，进而实现水的净化。

这一技术的核心在于其能够实现水的连续净化，无需添加化学药剂，减少能耗，同时，能够有效地去除水中的离子，达到高纯度水的生产。通过EDI系统，可以实现水的深度净化，适用于半导体行业、医药、生物技术等领域对水质要求极高的应用。

综上所述，电去离子（EDI）系统通过直流电场与隔板、膜的结合，实现对水中的离子进行高效、选择性地分离，从而实现水的提纯与净化，满足不同行业对水质的高要求。这一技术不仅环保，而且在工业应用中展现出其高效、节能的特点，成为现代水处理技术的重要发展方向。

半导体(semiconctor)，指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。半导体材料很多，按化学成分可分为元素半导体和化合物半导体两大类。锗和硅是最常用的元素半导体;化合物半导体包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：砷化镓、磷化镓等;Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化镉、硫化锌等;氧化物：锰、铬、铁、铜的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物组成的固溶体：镓铝砷、镓砷磷等。除上述晶态半导体外，还有非晶态的玻璃半导体、有机半导体等。[1]

③ 高纯水设备高纯水设备（EDI）概述

EDI高纯水设备，作为反渗透设备后的二次除盐设备，被广泛应用于微电子工业、半导体工业、发电工业、制药行业和实验室等众多领域。其能够制取出高达10-18.2MΩ.CM的超纯水，满足了不同行业对高纯水的高标准需求。

在微电子工业中，高纯水是芯片制造过程中不可或缺的关键原料，直接关系到产品的性能与稳定性。EDI设备通过电渗析原理，将离子交换膜与离子选择性树脂相结合，实现对水中的离子有效去除，从而提供纯净度极高的超纯水。

半导体工业同样对高纯水有极高要求，从晶片清洗到制造过程中的化学反应，每一环节都离不开纯净的水。EDI设备的高效除盐能力，确保了半导体制造过程中的纯净水质，对于提升产品性能、降低生产成本具有重要意义。

发电工业中，锅炉补给水的纯净度直接影响到热效率与设备寿命。EDI设备能够去除水中的离子杂质，提供纯净的补给水，保证了发电系统的稳定运行与高效能。

在制药行业中，高纯水是生产高质量药品的必要条件之一。从药物配制到清洗设备，都需要纯净的水以保证药品的纯度和安全。EDI设备通过精细的除盐过程，确保了制药过程中使用的水质量，支持了药品生产的高标准。

此外，EDI设备还被应用于食品饮料生产、实验室研究等众多领域。无论是为食品饮料提供纯净的生产用水，还是为科学研究提供高质量的实验用水，EDI设备都能满足不同应用场景对高纯水的需求，为各行业提供了可靠的水处理解决方案。

④ 超纯水是什么

超纯水又称UP水，是指电阻率达到18MΩ*cm（25℃）的水。这种水中除水分子外，不含其它杂质，如细菌、病毒、含氯二恶英等有机物，也没有人体所需的矿物质等微量元素，即是去除氧和氢以外所有原子的水。可用于超纯材料（半导体元件材料、纳米精细陶瓷材料等）应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术的制备过程。

⑤ 超纯水是什么

超纯水（ultrapure water）又称高纯水，是指将水中的导电介质几乎全部去除，又将水中不离解的胶体物质、气体和有机物均去除至很低程度的水。超纯水的含盐量在0.1mg/L以下，电导率小于0.1μs/cm。

超纯水作为所有的实验用水都可以，特别是高灵敏度ICP/MS、ppt级分析、同位素分析、疾控中心、药检所、质检所、环监站、高校科研等标准实验室及各种高端精密仪器用水。

物质介绍

超纯水：既将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。电阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm极限值（25℃）。

超纯水，是一般工艺很难达到的程度，采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理四大步骤，多级过滤、高性能离子交换单元、超滤过滤器、紫外灯、除TOC装置等多种处理方法，电阻率方可达18.25MΩ*cm（25℃）。

超纯水是美国科技界为了研制超纯材料（半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等）应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水，这种水中除了水分子（H20）外，几乎没有什么杂质，更没有细菌、病毒、含氯二恶英等有机物，当然也没有人体所需的矿物质微量元素，一般不可直接饮用，对身体有害，会析出人体中很多离子。

制作流程

超纯水是指下列杂质含量极低的水：①无机电离杂质，如 Ca、Mg、Na、K、Fe2+、Fe3+、Mn、Al、HCO、CO、SO、Cl、NO、NO、SiO、PO等；②有机物，如烷基苯磺酸、油、有机铁、有机铝以及其他碳氢化合物等；③颗粒，如尘埃、氧化铁、铝、胶体硅等；④微生物，如细菌、浮游生物和藻类等；⑤溶解气体，如N2、O2、CO2、H2S等。超纯水中电离杂质的含量用水的电阻率数值来衡量。理论上，纯水中只有H离子和OH离子参加导电。在25℃时超纯水的电阻率为 18.3（兆欧·厘米），一般约为15～18（兆欧·厘米）。

超纯水中有机物含量由测定有机物碳含量而定，电子工业超纯水中规定含量为50～200微克/升，并要求直径大于1微米的颗粒性物质每1毫升内含量为1～2个，微生物每1毫升为0～10个。现代采用预处理、电渗析、紫外线杀菌、反渗透、离子交换、超滤和各种膜过滤技术等，使超纯水的电阻率在25℃时达到18（兆欧·厘米）。

依各种原水水质和用户要求的不同，超纯水的制备工艺大体可分为预处理、脱盐和精处理三步。

应用领域

1、电子、电力、电镀、照明电器、实验室、食品、造纸、日化、建材、造漆、蓄电池、化验、生物、制药、石油、化工、钢铁、玻璃等领域。

2、化工工艺用水、化学药剂、化妆品等用纯水。

3.单晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装 、引线柜架、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、显像管、线路板、光通信、电脑元件 、电容器洁净产品及各种元器件等生产工艺用纯水。

4、高压变电器的清洗等。

区别介绍

纯水是指既将水中易去除的强电介质去除，又将水中难以除去的硅酸及二氧化碳等弱电解质去除至一定程度的水。纯水的含盐量在1.0mg/L以下，电导率小于50μs/cm。

超纯水（高纯水）是指将水中的导电介质几乎全部去除，又将水中不离解的胶体物质、气体和有机物均去除至很低程度的水。高纯水的含盐量在0. 3mg/L以下，电导率小于0. 2μs/cm。