Ⅰ 硼酸的废水排放标准
硼酸等工业污染物银基升排放标准为GB4283－84。
1、根据《污水综合排放标准》第四条标准分级：排入GB3838Ⅲ类水域（划定的保护区和游泳区除外）和排入GB3097中二类海域的污水，执行一级标准；排入GB3838中Ⅳ、Ⅴ类水域和排入GB3097中三类海域的污水，执行二级标准。
2、工业废水包括生产废水、生产污水及冷却水，是指工业生产过程中产生的废水和废液，其中含有随水流失的工业生产用料、中间产物、副产品以及生产过程中产锋誉生的污染物。工业废水种锋老类繁多，成分复杂。
Ⅱ 超纯水除硼 ，芯片专用超纯水硼的去除方法
硼作为五号元素，处于IIIA族中唯一的非金属元素。它是制造P型半导体的关键掺杂剂，半导体的极限电压依赖于基材中的硼含量。在半导体制造中，水、气、化学物质直接与产品接触，超纯水的质量至关重要。若超纯水中硼含量控制不力，将影响基材中硼的含量。
在低浓度下，硼在水中以硼酸或硼酸根形式存在，其比例随pH值变化。pH超过11时，主要以硼酸根形式存在；而pH小于7时，主要以硼酸形式存在。硼酸的电离常数仅为5.8 x 10-10，电离能力极弱，因此，常规水处理过程中，硼酸难以去除。
超纯水中的硼离子去除需结合高级净化技术，包括预处理、反渗透、离子交换、蒸馏、紫外线或超滤等。一个完整的超纯水系统整合了这些工艺，通过过滤、离子交换、精密加药、反渗透膜处理、紫外线消毒和EDI（电去离子）及抛光离子吸附过滤等环节，确保最终产水的电阻率超过18.25MΩ/cm，达到超纯标准。
地壳中硼的平均丰度为10ppm，火成岩中含硼量在12ppm至8ppm之间。在半导体制造中，硼的存在会严重影响设备性能和实验结果，因此需要采取措施去除超纯水中的硼离子。
芯片半导体行业对硼的要求为10ppt以下，现有部分工艺无法满足该标准。杜笙离子交换树脂CH-99通过选择性吸附硼，确保出水稳定无波动。
Tulsimer® CH-99是一款高效选择性离子交换树脂，专为去除水溶液中的硼及其盐而设计。它在广泛的pH范围内表现出色，并能高效去除硼及其盐，即使在有其他离子存在的情况下也是如此。通过其胺聚羟基官能团与硼酸盐紧密结合，形成稳定的络合物，从而去除硼酸盐，不受其他阴离子影响。
二、重要参数
Tulsimer® CH-99按严格工艺制成，作为去除水溶液中硼及其盐的选择性离子交换树脂，其特点和优势主要体现在以下几个方面：
1. 高选择性：CH-99树脂具有与硼生成络合物的多羟基胺功能基团，使其在低浓度环境下也能高效吸附硼元素。
2. 高吸附速度：优化的三维空间立体网络树脂结构和功能活性基团，确保快速吸附动力学，提高处理效率。
3. 强吸附性能：高吸附容量和吸附速度，能有效降低溶液中硼的浓度，适用于低浓度环境下的硼元素去除和回收。
4. 显著经济效益：高效吸附性能降低操作时间与树脂使用量，减少能耗及整体成本，提高经济效益。
5. 稳定性强：在多种盐类共存环境中，对CH-99树脂影响较小，保持稳定的吸附效果，不易受其他物质影响。
6. 广泛应用：适用于饮用水处理、超纯水、海水淡化、废水除硼等多个领域。
7. 环保友好：通过选择性吸附而非化学沉淀，减少化学试剂使用，降低二次污染风险。