edi出水指標多少

① 實驗室超純水設備的介紹

超純水設備所使用的EDI技術在學術上又被叫做連續電除鹽技術，此專種技術從專業角度講是一種屬不消耗酸鹼，就能制備超純水的技術，主要應用工業有微電子工業、半導體工業、發電工業、制葯行業以及實驗室等應用日趨廣泛。

其出水水質完全符合美國ASTM純水水質標准、我國電子工業部水質技術標准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標准)、我國電子工業部超純水水質試行標准、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標准、國內外大規模集成電路水質標准。

隨著人們對水質要求越來越高，水處理技術也在不斷創新，但是很多水處理技術無法擺脫傳統思想觀念，沒有太多創新和改進。而超純水設備所應用的新型水處理技術將徹底改變傳統觀念，為水處理行業做出巨大貢獻，也為水處理技術帶來一次飛躍性變革。

② EDI連續電除鹽水處理設備的EDI設備進水指標要求

◎通常為單級反滲透或二級反滲透的滲透水
◎TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計）：專<25ppm。
◎電導率：屬<40μS/cm
◎PH：6.0～9.0。當總硬度低於0.1ppm時，EDI最佳工作的pH范圍為8.0～9.0。
◎溫度： 5～35℃。
◎進水壓力：<4bar（60psi）。
◎硬度：（以CaCO3計）：<1.0ppm。
◎有機物（ TOC）：<0.5ppm。
◎氧化劑：Cl2<0.05ppm，O3<0.02ppm。
◎變價金屬： Fe<0.01ppm，Mn<0.02ppm。
◎H2S：<0.01ppm。
◎二氧化硅：<0.5ppm。
◎色度：<5APHA。
◎二氧化碳的總量：<10ppm
◎ SDI 15min：<1.0。

③ 科瑞斯EDI模塊RC-500 型號有哪些特點

科瑞斯EDI模塊RC-500型號具備多項特點，性價比高，適用於水處理、原水處理、高純水、EDI裝置等行業。技術參數方面，操作壓力為0.7（Mpa），水電阻率為16兆歐，出水量為5立方/小時，外形尺寸、電壓、水質、功率、電流、脫鹽率及單機出力等指標也均表現出色。

科瑞斯EDI膜堆RC-500型號的優點包括工作連續製造純水，無間斷運行；無須加鹽系統；不需要酸、鹼化學試劑對樹脂再生；回收率高，廢水易於循環再用；出水水質穩定；容易實現膜塊組合達到制水能力要求；運行費用低，符合環保要求。

在應用領域方面，科瑞斯EDI膜堆RC-500型號廣泛應用於電廠化學水處理、電子、半導體行業超純水、精密機械行業超純水、制葯工業工藝用水、實驗室研究用超純水、精細化工、精尖學科用水以及其它行業所需的高純水制備。

④ 電子工業超純水設備的應用范圍

為了滿足電子行業用水需求，根據光電材料，液晶顯示屏生產，加工，清洗等所需使用超純水標准，而設計並生產的一套超純水設備。

edi水處理設備出水符合標准

超純水設備出水水質完全符合美國ASTM純水水質標准、我國電子工業部電子級水質技術標准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標准)、我國電子工業部高純水水質試行標准、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標准、國內外大規模集成電路水質標准。

edi超純水裝置-電子行業超純水系統

edi超純水系統工藝流程

預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)

應用領域

電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗

電子管生產、電子管陰極塗敷碳酸鹽配液

顯像管和陰極射線管生產、配料用純水

黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉澱、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水

液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液

晶體管生產中主要用於清洗矽片，另有少量用於葯液配製

集成電路生產中高純水清洗矽片

半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路

LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏

高品質顯像管、螢光粉生產

半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗

超純材料和超純化學試劑、超純化工材料

實驗室和中試車間

汽車、家電表面拋光處理

光電產品、其他高科技精微產品

⑤ EDI純水機的EDI主要經濟技術指標

1、預處理流量≥2.5T/H；
2、一級反滲透產水≥1.5T/H；
3、二級反滲透產水≥1T/H；
4、一級反滲透電導率版≤權15μs/cm；
5、二級反滲透電導率≤10μs/cm；
6、EDI產水電阻率≥14MΩ·CM；
7、拋光混床產水電阻率≥17MΩ·CM（採用核子級樹脂）（內裝25L，每升可產水35-50噸）；
8、EDI產水流量≥1000L/H；
9、一級反滲透水利用率≥65%；
10、二級反滲透水利用率≥85%；
11、EDI水利用率≥90%；
12、EDI使用壽命：3-5年（當水質、水量不符合標准時需要對膜塊進行清洗）。

⑥ EDI連續電除鹽水處理設備EDI設備進水指標要求

通常，用於EDI連續電除鹽水處理設備的進水應為經過單級反滲透或二級反滲透處理的滲透水。在進入EDI設備前，水中的TEA（總可交換陰離子，按照CaCO3計算）需控制在小於25ppm的范圍內。電導率需保持在低於40μS/cm的水平，而pH值則應在6.0到9.0之間。當總硬度低於0.1ppm時，最優的pH工作范圍為8.0到9.0。水的溫度應在5到35℃之間，進水壓力應不超過4bar（60psi）。硬度需控制在以CaCO3計小於1.0ppm的水平。有機物（TOC）應低於0.5ppm。氧化劑如Cl2應少於0.05ppm，O3應少於0.02ppm。變價金屬，如Fe和Mn，需分別控制在0.01ppm和0.02ppm以下。H2S需少於0.01ppm，二氧化硅控制在小於0.5ppm的水平。水的色度應低於5APHA。二氧化碳總量應小於10ppm。最後，SDI（15分鍾）需小於1.0，以確保水質的純凈度。

⑦ 水處理技術中EDI電導率是多少

1. EDI水處理裝置

EDI水處理裝置又稱連續電除鹽技術，它科學地將電滲析技術和離子交換技術融為一體，通過陽、陰離子膜對陽、陰離子的選擇透過作用以及離子交換樹脂對水中離子的交換作用，在電場的作用下實現水中離子的定向遷移，從而達到水的深度凈化除鹽，並通過水電解產生的氫離子和氫氧根離子對裝填樹脂進行連續再生，

2、因此EDI水處理裝置制水過程不需酸、鹼化學葯品再生即可連續製取高品質超純水，EDI水處理裝置具有技術先進、結構緊湊、操作簡便的優點，可廣泛應用於電力、電子、醫葯、化工、食品和實驗室領域，是水處理技術的綠色革命。EDI水處理裝置這一新技術可以代替傳統的離子交換裝置，生產出電阻率高達16-18MΩ·CM的超純水。