edi的清洗系統

⑴ 超純水系統的EDI系統怎麼清洗

1、清洗時，EDI系統的淡水室、濃水室和極水室都需要清洗。即清洗液從原水進和濃水回進清答洗口進入EDI，從「產水」、「濃水出」、「極水出」回到清洗水箱。(正洗)
2、第一步 酸洗：清洗水箱中配製2.0%鹽酸溶液，循環30分鍾。
沖洗：清洗水箱中酸洗液放掉後，將水箱中水沖洗至中性，然後將清洗進和迴流管清洗到迴流水至中性。
第二步 消毒：清洗水箱中配製0.2%的H2O2溶液(約用25% H2O2的濃10kg)循環50分鍾。
沖洗：清洗水箱中消毒液放掉後，清洗EDI至水箱中迴流水至電導率降至100μs/cm以下。
第三步：鹼洗：水箱中配製1.2%NaOH+5.0%NaCL的溶液，循環50分鍾。

⑵ 超純水設備中EDI膜堆可以清洗嗎

可以清洗來；在運行中，如果將較差的源給水引進膜塊，或者電源不足，就會增加維修工作量。給水中主要引起污染的是有機物、硬度和鐵。給水硬度較高將引起離子交換膜濃水側結垢，而使產水水質降低。給水硬度、溶解的CO2和高PH值會加速結垢，可以用適當的酸液清洗污垢。

給水中的有機物污染，會在離子交換樹脂和離子交換膜表面形成薄膜，因而將嚴重影響離子遷移速率，因此影響產水水質。當發生此現象時，淡水室需用適當的清洗劑清洗。有機物清洗過程請參考附錄。如果 EDI 膜塊在無電或給電不足的情況下運行，淡水室內離子交換樹脂處於離子飽和狀態，產水的水質會降低。為了再生離子交換樹脂，將水流通過膜塊，並慢慢增加電源供電電壓，使被吸附的離子遷移出系統從而對樹脂進行再生。樹脂再生時，膜塊應在較高電流和較低水流量的條件下運行。

⑶ 什麼是EDI水處理裝置

EDI水處理裝置是指的EDI模塊：

EDI，又稱連續電除鹽技術，它是將傳專統電滲析技術和離子交換技術相結合屬，在電場力的作用下，通過陽、陰離子膜對陽、陰離子的選擇透過性作用以及離子交換樹脂對水中離子的交換作用，使水中離子作定向遷移，從而實現水的深度凈化除鹽。水電解產生的氫離子和氫氧根離子對樹脂進行連續再生，因此EDI模塊制水過程不需要酸鹼化學再生即可連續製取高品質超純水。

EDI模塊

EDI模塊有哪些特點？

1、產水穩定安全，可以進行隨時監測保證水質是一直合格的。

2、系統自動化程度高，操作控制簡單方便，可以無人化生產，減少了勞動力。

3、連續穩定產水，再生時不需要對設備停機，更加方便快捷。

4、無污染，在生時不需要對其投加化學試劑，因此減少了對環境的污染。

5、成本低。設備經過合理的設計，運行穩定並有效節約了成本。

6、裝置結構緊湊減少了佔地面積，節省了空間，間接的減少了運行成本。

7、原水利用率高，幾乎沒有廢水的排放。

⑷ 請問西門子EDI模塊是如何清洗的

根據西門子EDI模塊系統的運行狀態，EDI系統的清洗採用酸洗—消毒—鹼洗版的方法來清洗EDI模塊。清洗時，EDI系統的淡水室、權濃水室和極水室都需要清洗。即清洗液從「原水進」和」濃水進」清洗口進入EDI，從「產水」、「濃水出」、「極水出」回到清洗水箱。

⑸ 純水機EDI膜堆MK-2E如何清洗

對膜件的清洗一般分為物理清洗和化學清洗兩種，而化學清洗的頻次越高，對膜件的損傷越大，嚴重影響了膜系統的使用壽命。所以，相關技術人員很難掌握好膜系統的化學清洗。膜清洗頻率與預處理措施的完善程度是緊密相關的。預處理越完善，清洗間隔越長；反之，預處理越簡單，清洗頻率越高。
一般膜清洗是遵循（則橋10%法則）——當校正過的淡水流量與最初200h運行（壓緊發生之後）的流量之比，降低了10%和（或）觀察到壓差上升了10%~20%就需進行孫敗猛清洗。盡可能在脫鹽率下降顯示出來以前採取措施。
正規安排的保護性維護清洗不足以保護反滲透系統。譬如，由於預處理設備運行不正常，進水條件在短時間內就會發生變化。
反沖洗對於防止大顆粒對某些形式反滲透膜模件的堵塞是有效的。但不是所有的污染都可通過簡單的反沖洗就能清除除掉，還需要有周期的化學清洗。化學清洗除需增加葯劑和人工費用外，還有個污染問題，所以也不可過頻繁，每月不應超過1~2次，每次清洗時間約1~2h。
化學清洗系統通常包括一台化學混合箱和與之相配的泵、混合器、加熱器等。化學清洗常是根據運行經驗來決定（可以根據每列設備壓降讀數與運行時間的關系曲線，或是依據產水量、淡水水質和膜的壓降等）。 化學清洗所用的葯劑和方法，需根據污染源來決定，應重視和應用本單位的經驗。為了保證效果，在化學清洗前要進行沖洗。沖洗前先降壓，再用2~3倍正常流速的枯悄進水沖洗膜，靠流體的攪動作用將污物從膜面從膜面剝離並沖走。然後針對污染特徵，選擇清洗液對膜進行化學清洗。為了保護反滲透模件，液溫最好不超過35•C。 系統若停用5天以上，最好用甲醛沖洗後再投用。如果系統停用二周或更長一些時間，需用0。25%甲醛浸泡，以防微生物在膜中生長。化學葯劑最好每周更換一次。

⑹ 軟水器、過濾器、EDI電除鹽設備等設備

edi水處理模塊是超純水裝置中重要組成部分，制水純度的高低直接內受到離子水設容備edi膜塊運行狀態的影響，所以必須對EDI膜塊進行定期維護清洗，確保設備長期穩定運行。

超純水edi清洗操作流程概述

獨立循環清洗程序

1、排空清洗系統。

2、若是使用直通清洗方法，則不能在開始清洗之前或在清洗步驟之間排空 EDI系統(如果已工作超過一個步驟)。若是使用再循環清洗方法，則在開始清洗之前或在清洗過程中排空EDI系統(如果已工作超過一個步驟)。

3、通過關閉 EDI系統淡水進口，淡水出口，淡水沖洗出口，濃水排放，及極水出口閥將 EDI系統與上游及下游隔離開。

4、通過關閉濃水進口隔離閥來將濃水管線與淡水和極水管線隔離開。

edi超純水處理設備清洗程序

清洗程序 1: 濃水管線清洗及消毒。

清洗程序 2: 淡水管線清洗及消毒。

⑺ edi反滲透純水設備的清洗方法有哪些

反滲透設備的清來洗方法有兩種自，分為在線清洗和離線清洗

一、在線清洗：在線清洗是指對反滲透裝置整體進行清洗，膜元件不用拿出壓力容器，通常在較大系統中設計使用。此清洗方式操作簡單方便，時間短，缺點為清洗不徹底，效果不理想。

二、離線清洗：離線清洗是指將膜元件從反滲透壓力容器中卸下，裝入專用清洗設備中進行清洗，通常一次清洗數量不超過6支。此清洗方式操作簡單方便，清洗徹底、效果最佳。

⑻ 請問美國Ionpure EDI模塊清洗和消毒的方法有那些

清洗
隨著工作時間的累積，需要對美國Ionpure
EDI模塊進行清洗及消毒，這是因為：
-
硬度或金屬結垢，主要產生在濃水室內；
-
在離子交換樹脂或膜形成無機物污垢（例如，硅）；
-
在離子交換樹脂或膜形成有機物污垢；
-
EDI模塊和系統管道及其它部件的生物污垢；
-
以上所有情況一起出現在某些情況下，需要使用一種以上的清洗方法。
高溫消毒
美國Ionpure
EDI模塊可以在高溫(80°C/176°F)情況下進行消毒，消毒說明將同時提供給用戶。
例行的消毒最好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用於例行的消毒，只適用於嚴重的生物污堵的消毒,
消毒時先進行低濃度氧化劑消毒，再用高PH清洗。
安全
1)
避免接觸氫氧化鈉，過乙酸，過氧化氫及氯代烴等具有腐蝕性的化學物質，過氧化氫是氧化劑。
2)
將整個管線降壓以避免高壓化學葯劑噴濺。
3)
EDI系統在高電壓下運行，在任何維護工作前，確保整流器不通電並鎖定。
清洗化學品規范
所有化學品應必須達到推薦使用的等級或者更好。
氯化鈉(NaCl)，食用級(≥99.80%),
ACS或USP級醋酸(CH3COOOH)以及過氧化氫(H2O2)30%:
ACS級,或達到水系統清洗的商用濃度。鹽酸(HCl)
ACS或技術級氫氧化鈉(NaOH):
球狀,
NF,
ACS或凈化級;
或50%
w/w
溶液。

⑼ 西門子EDI模塊一般的清洗步驟有那些

一般就這四個步驟：1．准備 2．酸洗 3．消毒 4．鹼洗