① 金屬氧化物對反滲透的影響
反滲透膜進水的水質要求:
泥密度指數(SDI值)<4.0 4、濁度(NTU)<1.0 100T/h單級反滲透設備方案5、有機物含量(COD，mg/L)<1.5 6、余氯含量(mg/L)L)：溶氧>5mg/L時，Fe<0.05 8、SiO2(mg/L)：濃水中SiO2<100 9、LSI：pHb-pHs<0 10、Sr、Ba等易形成難溶鹽的離子：Ipb<0.8Ksp 後三項通過添加阻垢劑可適返裂洞當提高其值。如果上述指標某一項或幾項不達標時，會對反滲透膜造成以下影響 1、RO反滲透膜結源喚垢 2、RO反滲透膜受金屬氧化物污染 3、懸浮物污堵RO反滲透膜 4、膠體污漏枯染 5、有機物及微生物等污染，導致出水COD升高。
② 水中哪些成分，對反滲透膜原件有損害
自來水因為消毒而被氯化過，因此水處理反滲透前必須安裝活性炭過濾器或投加還專原劑以去屬除水中的余氯，本反滲透水處理系統的膜為聚醯胺類復合膜，如果原水中存在游離氯，膜就會受到不可恢復的損害。
水處理設備的額定產水量是在原水水溫為25℃的情況下設定的，反滲透水處理系統的產水量隨原水水溫降低而下降。一般情況下，水溫每降低1℃，產水量將下降3 %。
③ 反滲透膜清洗方法有哪些
反滲透膜清洗方法：1、1%-2%檸檬酸溶液或0.4%HCl溶液，適用於鐵污染及碳酸鹽結晶污堵；2、0.2%NaClO+0.1%NaOH溶液，適用於清洗由有機物及活性生物引起的超濾膜組件的污染；3、0.3%H2O2+0.3%NaOH溶液，適用於清洗由谷氨酸發酵液引起的超濾膜組件的污染；4、1%甲醛溶液，適用於細菌污染的超濾。
反滲透膜清洗力度要視工作量、污垢量、周期而定，短周期運行進行一般的低壓清理即可，保證壓力容器水質新鮮，清洗半個小時即可，稱為物理清洗；而長周期運行，且工作強度較高的反滲透系統就要添加葯劑進行系統的清洗和維護，稱為化學清洗。化學清洗一般用到的葯劑有檸檬酸溶液、檸檬酸銨溶液、加酶洗滌劑、濃鹽水等。
清洗步驟流程
1、徹底清洗葯液箱。
2、安裝干凈濾芯、過濾器。
3、葯液倒入葯液箱，循環清洗葯液經過濾器返回至清洗葯液箱，並加熱清洗。
4、注意洗液PH值，適合的范圍在2.0-3.5之間，並記錄反滲透產品水側和濃縮水側的PH值。
5、反滲透設備水管連接清洗系統進行反滲透的第一級清洗，緩慢開啟清洗泵，觀察排出水為清洗液時，將濃水管路連接回清洗系統；開始循環清洗30分鍾，再浸泡30分鍾，其次再循環清洗15分鍾結束。
6、反滲透膜其它段的清洗重復步驟5即可，直致所有反滲透所有組件清洗完畢。
④ 反滲透進水中鐵離子對反滲透膜的影響有多大
金屬化合物污染主要是金屬氧化物、金屬氫氧化物等，尤其以鐵污染為主。發生的專原因主要
是預處理屬缺陷、管路銹蝕等，其症狀是產水量和脫鹽率下降，膜元件壓差增大，可按照以下配方
進行清洗：
主要污染物質 推薦清洗液 備注
金屬化合物 1.0% 焦亞硫酸鈉 Na2S2O5，pH＝5，最高溫度30℃
2.0％ 檸檬酸 C6H8O7，pH＞2，最高溫度45℃
進行清洗必須使用RO膜廠家規定的流程!!!
⑤ 反滲透膜結垢的原因是什麼如何防止
在系統正常運行一段時間後，反滲透膜元件會受到給水中可能存在內的懸浮物或容難溶鹽的污染，這些污染中最常見的是碳酸鈣沉澱、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶沉澱、金屬（鐵、錳、銅、鎳、鋁等）氧化物沉澱、硅沉積物、無機或有機沉積混合物、NOM天然有機物質、合成有機物（如：阻垢劑/分散劑，陽離子聚合電解質）、微生物（藻類、黴菌、真菌）等。
物理清洗膜元件：低壓力、高流速的將反滲透產水來沖刷膜元件，可以把短期內在膜表面附著的污染物和堆積物清洗掉的一種有效方法。一般物理清洗頻率較高。
化學清洗膜元件：有些結垢情況通過物理清洗很難去除附著在膜元件表面的污染物和堆積物。這個時候就需要通過化學葯劑來對結垢進行去除。為了能夠達到最佳的清洗效果一般都是通過多種化學清洗葯劑進行組合清洗。而且葯劑的選擇以及清洗順序也是有嚴格要求的。
詳細預防方法可見官網：網頁鏈接
⑥ 反滲透膜污染物成分是什麼
膜污染是指被處理深液中的微粒、膠體粒子或溶質與膜發生相互作用，或因濃差極化使某些物質在膜表面濃度而引起這些物質在水流通道、膜表面或膜孔內吸附、沉積，造成孔道或水流通道變小或堵塞的現象。
污染物類型：水源不同，污染物類型不同，污染物類型不同，則清除污染物的方法也不一樣。
一、懸浮固體
懸浮固體普通存在於地表水中，顆料直徑>1um，如砂、粘泥、SIO2顆料等，水流處理於停止狀態時可以沉積下來，它很容易被反滲透系統設置的細砂過濾器或多介質過濾器濾除，經過預處理後，下列指標必須符合：濁度<1NTU，15分鍾SDI值<5。
二、膠體污染物
膠體物普遍存在於地表水中，主要是鋁類的粘土，如硅酸化合物，鐵鋁氧化物、硫化物、單寧酸、腐殖質等，這類膠體顆料大小在0.3~1.0um范圍,帶負電荷，單用過濾無法除去，幫採用凝聚，過濾或直流混凝方法，使膠體顆料增大至10-20um過濾除去，當懸浮物膠體含量過多時，還需凝聚、澄清、過濾。
三、有機物污染
有機物對膜污染是復雜的，其主要為腐殖類物質，凝聚澄清和活性碳過濾都僅能除去都分有機物;也可以採用超濾除去有機物。
四、生物污染
該類污染通常為細菌、生物膜、藻類和真菌。細菌會以醋酸纖維為食物，因而醋酸膜易受細菌的侵蝕;對於復合膜，雖不易被細菌侵害，但細菌粘膜會造成膜的污堵。進行反滲透工藝系統設計時，必須控制生物活性，原水細菌含量在10000CFU/CM以上時就必須考慮去除措施。膜污染通常為混合型，污染物是多種成分的混合物。
一般從被污染的膜元件的濃水隔網和膜表面取樣分析污染物成分，濃水隔網的低流速區最易沉積體積較大的污染物，包括CACO3晶粒、生物膜、網狀有機薄膜、微粒、膠體和絮凝劑。這些污物將導致系統壓力升高和產水量降低。
膜表面上的污染物通常為緊密附著的硅酸化合物、硫酸鹽、聚合物、有機物、金屬氧化物和氫氧化物等污染物。這些污堵導致產水率降低和脫鹽率的下降。
⑦ 反滲透膜性能損壞主要是什麼造成的
反滲透膜如果得不到及時的清洗或清洗方法不當時，其性能會受到損壞。版
設備在運行過程權中，除了正常的性能衰減外，因有機物、化學垢及微生物等污染而導致的性能損壞是較為嚴重。經研究發現，污染時間長短不同其症狀也不一樣。以碳酸鈣垢污染為例，當污染時間為一周時，脫鹽率迅速下降，壓力差會隨之慢慢增大，對產水量沒有太大影響，此時可選擇用檸檬酸進行清洗。
如果次污染延長到一年的時間，將嚴重影響產水量，且鹽通量會大大增加。再者，要綜合原水水質、污染指數、設備性能變化等多種因素去鑒別污染的類型。
當前處理中微濾器很快被堵塞或壓力差很快增加時，很可能是發生了膠體污染。RO設備的透過水和濃縮水中的細菌總數都比較高時，很可能是受到了微生物污染，這種現象一般都是由於平時保養和消毒不及時或操作不當引起的。
⑧ 反滲透進水中鐵離子對反滲透膜的影響有多大
當原水含有超過0.5ppm的鐵離子時，基於經濟上的考量並不建議使用抑垢劑。或應在前處理增設除鐵系統，先行除去鐵份。ii. 必須慎選正確的抑垢劑，當原水含有鐵或鋁(來自PAC)時，不得使用僅含陰離子性高分子的分散劑，因其會與上述二項多價鍵離子反應，而造成膜管的淤塞。
⑨ 鐵錳氧化之後進入反滲透膜怎麼清洗
反滲透膜正常運行一段時間後，反滲透膜元件會受到給水中可能存在懸浮物或難溶鹽的污染，這些污染中最常見的碳酸鈣沉澱、硫酸鈣沉澱、金屬(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)氧化物沉澱、硅沉積物、無機或有機沉積混合物、NOM天然有機物質、合成有機物(如：阻垢劑/分散劑，陽離子聚合電解質)微生物藻類、黴菌、真菌)等污染。污染性質和污染速度取決於各種因素，如給水水質和系統回收率。通常污染是漸進發展的,如不盡早控制，污染將會在相對較短的時間內損壞膜元件。當膜元件確證已被污染，或是臨時停機之前，或是作為定期日常維護，建議對膜元件進行清洗。當反滲透系統（或裝置）出現以下症狀時，需要進行化學清洗或物理沖洗：正常給水壓力下，產水量較正常值下降10-15%,為維持正常的產水量，經溫度校正後的給水壓力增加10-15%,產水水質降低10-15%,透鹽率增加10-15%,給水壓力增加1015%,系統各段之間壓差明顯增加。
已受污染的反滲透膜的清洗周期根據現場實際情況而定。正常的清洗周期是每3-12個月一次。當膜元件僅僅是發生了輕度污染時，重要的清洗膜元件。重度污染會因阻礙化學葯劑深入滲透至污染層，影響清洗效果。
清洗何種污染物以及如何清洗要根據現場污染情況而進行。對於幾種污染同時存在復雜情況，清洗方法是採用低PH和高PH清洗液交替清洗（應先低PH後高PH值清洗）
污染物情況分析:1碳酸鈣垢：碳酸鈣垢是一種礦物結垢。當阻垢劑/分散劑添加系統出現故障時，或是加酸pH調節系統出故障而引起給水pH增高時，碳酸鈣垢有可能沉積出來。盡早地檢測碳酸鈣垢，對於防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的早期檢測出的碳酸鈣垢可由降低給水的pH值至3-5運行1-2小時的方法去除。對於堆積時間長的碳酸鈣垢，可用低pH值的檸檬酸溶液清洗去除。2硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢：硫酸鹽垢是比碳酸鈣垢硬很多的礦物質垢，且不易去除。硫酸鹽垢可在阻垢劑/分散劑添加系統出現故障或加硫酸調節pH時沉積出來。盡早地檢測硫酸鹽垢對於防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的硫酸鋇和硫酸鍶垢較難去除，因為它幾乎在所有的清洗溶液中難以溶解，所以，應加以特別的注意以防止此類結垢的生成。3金屬氧化物/氫氧化物污染：典型的金屬氧化物和金屬氫氧化物污染為鐵、鋅、錳、銅、鋁等。這種垢的形成導因可能是裝置管路、容器(罐/槽)腐蝕產物，或是空氣中氧化的金屬離子、氯、臭氧、鉀、高錳酸鹽，或是由在預處置過濾系統中使用鐵或鋁助凝劑所致。4聚合硅垢：硅凝膠層垢由溶解性硅的過飽和態及聚合物所致，且非常難以去除。需要注意的這種硅的污染不同於硅膠體物的污染。硅膠體物污染可能是由與金屬氫氧化物締合或是與有機物締合而造成的硅垢的去除很艱難，可採用傳統的化學清洗方法。現有的化學清洗葯劑，如氟化氫銨，已在一些項目上得到勝利的使用，但使用時須考慮此方法的操作危害和對設備的損壞，加以防護措施。5膠體污染：膠體是懸浮在水中的無機物或是有機與無機混合物的顆粒，不會由於自身重力而沉澱。膠體物通常含有以下一個或多個主要組份，如：鐵、鋁、硅、硫或有機物。6非溶性的天然有機物污染(NOM),非溶性天然有機物污染(NOMNaturOrganicMatter)通常是由地表水或深井水中的營養物的分解而導致的有機污染的化學機理很復雜，主要的有機組份或是腐植酸，或是灰黃霉酸。非溶性NOM被吸附到膜表面可造成RO膜元件的快速污染，一旦吸收作用發生，漸漸地結成凝膠或塊狀的污染過程就會開始。7微生物堆積：有機堆積物是由細菌粘泥、真菌、黴菌等生成的這種污染物較難去除，尤其是給水通路被完全堵塞的情況下。給水通路堵塞會使清潔的進水難以充分均勻的進入膜元件內。為抑制這種沉積物的進一步生長，重要的不只要清潔和維護RO系統，同時還要清潔預處理、管道及端頭等。對膜元件採用氧化性殺菌時，使用認可的殺菌劑。
清楚污染物慣例清洗液介紹1.[溶液1]2.0%W檸檬酸(C6H8O7低pH)pH值為3-4清洗液。以於去除無機鹽垢(如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等)金屬氧化物/氫氧化物(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)及無機膠體十分有效。
2.[溶液2]0.5%W鹽酸低pH清洗液(pH為2.5)主要用於去除無機物垢(如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等)金屬氧化物/氫氧化物(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)及無機膠體。這種清洗液比溶液1要強烈些，因為鹽酸(HCl)為強酸。3[溶液3]0.1%W氫氧化鈉高pH清洗液(pH為11.5）用於去除聚合硅垢。這一洗液是一種較為強烈的鹼性清洗液。4.[溶液4]氫氧化鈉-EDTA四鈉-六偏磷酸鈉清洗液。
清洗步驟：先用殺菌劑如1227清洗，再用溶液1清洗，再用溶液4清洗，最後用水沖洗至中性，所用水應為反滲透產水。