離子去漬原理

❶ 洗衣粉的去污原理是什麼

洗衣粉的去污原理是含有活性成分，洗滌活性成分它的作用就是減弱污漬與衣物間的附著力，在洗滌水流以及手搓或洗衣機的攪動等機械力的作用下，使污漬脫離衣物，從而達到洗凈衣物的目的。

從構成來講，表面活性劑分子具有典型的兩端結構：一端是親水而憎油的基團，該基團易溶於水，被稱為親水基；另一端是親油而憎水的基團，該基團不溶於水而溶於油，被稱為憎水基。當表面活性劑溶於水時，在水面上，表面活性劑分子的親水基在水側，而憎水基則被排斥在水的外面，形成定向排列的表面活性劑分子。

這種表面活性劑分子的定向排列，削弱了表面水分子之間的引力，可以強烈降低水的表面張力，從而增加水對衣服的潤濕滲透，同時可以促叢配使污漬分散乳化，從衣服表面脫落下來。水的表面被占滿後，水的表面張力降到了最低。

當表面活性劑在水表面排滿後，其它表面活性劑分子就進入溶液，形成膠束。膠束是無數個表面活性劑分子聚集在一起，形成球狀或棒狀，它的排列也是非常有序的，一律是親水基團朝外，親油基團朝里的定向排列。

在洗滌衣物時，通過機械搓揉和水的沖刷，表面活性劑分子中憎水基團（親油）將油污潤濕溶解，並分散成細小的乳濁液，進入膠束內部，這樣衣服的污漬就掉了下來。

表面上看是水把污漬溶解了，其實是污漬被表面活性劑分子潤濕分散，以乳濁液形式進入由表面活性劑分子包圍的穩定膠束中了。最後經清水漂洗，污漬就乖乖地隨水溜走了。

表面上看滲凱指，是水對污漬的溶解度增加，實質上是表面活性劑分子的功用——增溶作用，提高洗滌效果；另外，有些表面活性劑還有發泡作用，這些協同效果共同發揮作用，都是為了降低污漬與衣物之間的結合力，再在水流和外力作用下將衣物洗凈。

(1)離子去漬原理擴展閱讀

洗衣粉主要成分有：織物纖維防垢劑、陰離子表面活性劑、非離子表面活性劑、水軟化劑、污垢懸浮劑、酶、熒光劑及香料等；較差的洗衣粉常含有磷、鋁、鹼等有害成分。

表面活性劑在洗衣粉中的作用是使洗衣粉有可溶、乳化、浸透、潔凈、殺菌、柔化、起泡、防止衣物靜電等功能。合成的表面活性劑很早就被人們發現有使手變粗等副作用孫譽，現已被視為污染環境的一大公害。另外，磷、鋁鹼，尤其是磷在一些發達國家已被禁止使用在洗衣粉中。

❷ 除水垢的原理是什麼

含有鈣(Ca)鎂(Mg)鹽類等礦物質的水叫做「硬水」。河水、湖水、井水和泉水都是硬水。自來水是河水、湖水或者井水經過沉降，除去泥沙，消毒殺菌後得到的，也是硬水。剛下的雨雪，水裡不含礦物質，是「軟水」。水燒開後，一部分水蒸發了，本來不好溶解的硫酸鈣(CaSO4,石膏就是含結晶水的硫酸鈣）沉澱下來。原來溶解的碳酸氫鈣(Ca(HCO3)2）和碳酸氫鎂（Mg(HCO3)2)，在沸騰的水裡分解，放出二氧化碳(CO2)，變成難溶解的碳酸鈣(CaCO3)和氫氧化鎂（Mg(OH)2)也沉澱下來。這就是水垢的來歷。 用硬水洗衣服的時候，水裡的鈣鎂離子和肥皂結合，生成了脂肪酸鈣和脂肪酸鎂的絮狀沉澱，這就是「豆腐渣」的來歷。在硬水裡洗衣服，浪費肥皂。水壺里長了水垢，不容易傳熱，浪費燃料。這些對於一個家庭來說，浪費還不算嚴重。對於工廠來說，問題就大啦。工廠供暖供汽用的大鍋爐，有的每小時要送出好幾噸蒸汽，相當於燒干幾噸水。據試驗，一噸河水裡大約有1．6公斤礦物質；而一噸井水裡的礦物質高達30公斤左右。一天輸送幾十噸蒸汽，硬水在鍋爐內壁沉積出的水垢數量，又該多麼驚人！大鍋爐里結了水垢，好比鍋爐壁的鋼板和水之間築起一座隔熱的石牆。鍋爐鋼板挨不著水，爐膛的火一個勁地把鋼板燒得通紅。這時候，如果水垢出現裂縫，水立即滲漏到高溫的鋼板上，急劇蒸發，造成鍋爐內壓力猛增，就要發生爆炸。鍋爐爆炸的威力，不亞於一顆重磅炸彈！可見水垢的危害，決不能等閑視之！因此，在工廠里，往往在水裡加入適量的碳酸鈉（俗名蘇打），使水中的鈣鎂鹽類變成沉澱除去，水就變成了軟水。使硬水通過離子交換樹脂，也能除去其中的礦物質，得到軟水。家裡的水壺、暖水瓶里長了水垢，怎麼清除干凈呢？ 小心地將水壺燒到剛剛要干，立即浸到涼水裡。這一熱一冷，由於鋁和水垢熱脹冷縮的程度不同，水垢就會碎裂，從壺壁上籟籟落下。水垢的主要成分是碳酸鈣、氫氧化鎂，它們可以和酸起化學變化。根據這個道理，在水壺里倒些食醋（主要成分CH3COOH，有機酸-醋酸），在火上溫熱一下，只見水垢上放出密密麻麻的小氣泡，水垢便粉碎了。用稀鹽酸（HCl,一種強酸)也能除水垢。稀鹽酸「消化」碳酸鈣的能力比食醋強，不過，操作起來要十分小心，別讓鹽酸把手也腐蝕壞了。要知道，鹽酸和鋁(Al)很容易起反應。如果是搪瓷水壺，搪瓷又未脫落，用稀鹽酸除水垢當然好。暖水瓶里的水垢這樣除去，更沒問題了。

❸ 誰能說說plasma離子清洗機的工作原理

等離子清洗機 工作原理分析：
電漿與材料表面可產生的反應主要有兩種，一種是靠自由基來做化學反應，另一種則是靠等離子作物理反應，以下將作更詳細的說明。
（1）化學反應（Chemical reaction）
在化學反應里常用的氣體有氫氣（H2）、氧氣（O2）、甲烷（CF4）等，這些氣體在電漿內反應成高活性的自由基，其方程式為：
這些自由基會進一步與材料表面作反應。
其反應機理主要是利用等離子體里的自由基來與材料表面做化學反應，在壓力較高時，對自由基的產生較有利，所以若要以化學反應為主時，就必須控制較高的壓力來近進行反應。
（2）物理反應（Physical reaction）
主要是利用等離子體里的離子作純物理的撞擊，把材料表面的原子或附著材料表面的原子打掉，由於離子在壓力較低時的平均自由基較輕長，有得能量的累積，因而在物理撞擊時，離子的能量越高，越是有的作撞擊，所以若要以物理反應為主時，就必須控制較的壓力下來進行反應，這樣清洗效果較好，為了進一步說明各種設備清洗的效果。

等離子體清洗機的機理，主要是依靠等離子體中活性粒子的「活化作用」達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看，等離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發為等離子態；氣相物質被吸附在固體表面；被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子；產物分子解析形成氣相；反應殘余物脫離表面。

等離子體清洗技術的最大特點是不分處理對象的基材類型，均可進行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚醯亞胺、聚氯乙烷、環氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，並可實現整體和局部以及復雜結構的清洗。

等離子體清洗還具有以下幾個特點：容易採用數控技術，自動化程度高；具有高精度的控制裝置，時間控制的精度很高；正確的等離子體清洗不會在表面產生損傷層，表面質量得到保證；由於是在真空中進行，不污染環境，保證清洗表面不被二次污染。

2.等離子清洗機的清洗分類：

2.1 反應類型分類
等離子體與固體表面發生反應可以分為物理反應（離子轟擊）和化學反應。物理反應機制是活性粒子轟擊待清洗表面，使污染物脫離表面最終被真空泵吸走；化學反應機制是各種活性的粒子和污染物反應生成易揮發性的物質，再由真空泵吸走揮發性的物質。
以物理反應為主的等離子體清洗，也叫做濺射腐蝕（SPE）或離子銑（IM），其優點在於本身不發生化學反應，清潔表面不會留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化學純凈性，腐蝕作用各向異性；缺點就是對表面產生了很大的損害，會產生很大的熱效應，對被清洗表面的各種不同物質選擇性差，腐蝕速度較低。以化學反應為主的等離子體清洗的優點是清洗速度較高、選擇性好、對清除有機污染物比較有效，缺點是會在表面產生氧化物。和物理反應相比較，化學反應的缺點不易克服。並且兩種反應機制對表面微觀形貌造成的影響有顯著不同，物理反應能夠使表面在分子級范圍內變得更加「粗糙」，從而改變表面的粘接特性。還有一種等離子體清洗是表面反應機制中物理反應和化學反應都起重要作用，即反應離子腐蝕或反應離子束腐蝕，兩種清洗可以互相促進，離子轟擊使被清洗表面產生損傷削弱其化學鍵或者形成原子態，容易吸收反應劑，離子碰撞使被清洗物加熱，使之更容易產生反應；其效果是既有較好的選擇性、清洗率、均勻性，又有較好的方向性。
典型的等離子體物理清洗工藝是氬氣等離子體清洗。氬氣本身是惰性氣體，等離子體的氬氣不和表面發生反應，而是通過離子轟擊使表面清潔。典型的等離子體化學清洗工藝是氧氣等離子體清洗。通過等離子體產生的氧自由基非常活潑，容易與碳氫化合物發生反應，產生二氧化碳、一氧化碳和水等易揮發物，從而去除表面的污染物。

2.2 激發頻率分類
等離子態的密度和激發頻率有如下關系：
nc=1.2425×108v2
其中nc為等離子態密度（cm-3），v為激發頻率（Hz）。
常用的等離子體激發頻率有三種：激發頻率為40kHz的等離子體為超聲等離子體，13.56MHz的等離子體為射頻等離子體，2.45GHz的等離子體為微波等離子體。
不同等離子體產生的自偏壓不一樣。超聲等離子體的自偏壓為1000V左右，射頻等離子體的自偏壓為250V左右，微波等離子體的自偏壓很低，只有幾十伏，而且三種等離子體的機制不同。超聲等離子體發生的反應為物理反應，射頻等離子體發生的反應既有物理反應又有化學反應，微波等離子體發生的反應為化學反應。超聲等離子體清洗對被清潔表面產生的影響最大，因而實際半導體生產應用中大多採用射頻等離子體清洗和微波等離子體清洗

❹ 洗衣機銀離子是什麼原理

銀離子的除菌原理為Ag離子強烈地吸引細菌中蛋白酶上的巰基，迅速與其結合在一起，導致細菌的蛋白酶瞬間喪失活性，無法呼吸，迅速死亡，而且Ag離子殺死細菌後，再接觸其他菌落，達到持久除菌的目的。

銀離子系統，通過洗衣機進水閥系統進水，水槽內迅速積滿水，銀片通電後就能產生銀離子，在銀片通電過程中，水流循環沖擊銀片，不停地將帶銀離子的水通過水槽下蓋的噴淋口流進洗衣機桶內，不僅能夠提高衣物洗滌後的清潔度，而且還能對衣物起到消毒除菌的作用。

(4)離子去漬原理擴展閱讀

溶液中由銀離子光催化反應產生的活性氧基（·OH）即羥自由基進行了測定，結果顯示，光照射下溶液中產生活性氧基（·OH）。羥基自由基（·OH）有高達2.8V的氧化電子，高於臭氧、二氧化氯等，其氧化能力極強，具有極好的殺菌功能。

溶液中活性氧基（·OH）和銀離子各自攻擊微生物細胞，破壞細胞壁（或細胞膜）以及細胞內酶、線粒體等，細胞或細胞膜發生變形、凹陷，失去活性，從而使溶液顯示強大的除菌力。更令人神奇的是，由於羥基自由基能迅速將菌種細胞結構破壞掉，從而對殺死毛廯菌、白色念珠球菌等真菌更為有效。

❺ 等離子表面處理是什麼原理

中性粒子的溫度接近室溫，這些優點為熱敏性高分子聚合物表面改性提供了適宜的條件。通過低溫等離子體表面處理，材料表面發生多種的物理、化學變化，或產生刻蝕而粗糙，或形成緻密的交聯層，或引入含氧極性基團，使親水性、粘結性、可染色性、生物相容性及電性能分別得到改善。

❻ 等離子清洗機的清洗原理

等離子清洗機的清洗原理是在真空腔體里，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產生高能量的無序的等離子體，通過等離子體轟擊被清洗產品表面，以達到清洗目的。

在這種情況下，等離子處理可以產生以下效果：

1、灰化表面有機層

污染物在真空和瞬時高溫下的部分蒸發，污染物被高能離子粉碎並被真空帶走。

紫外輻射破壞污染物，由於等離子體處理每秒鍾只能穿透幾納米，所以污染層不應該太厚。指紋也適用。

2、氧化物去除

這種處理包括使用氫或氫和氬的混合物。有時也採用兩步流程。第一步是用氧氣氧化表面5分鍾，第二步是用氫和氬的混合物除去氧化層。它也可以同時用幾種氣體處理。

3、焊接

通常，印刷電路板應在焊接前用化學葯劑處理。焊接後，這些化學物質必須用等離子體法去除，否則會引起腐蝕和其他問題。

(6)離子去漬原理擴展閱讀

等離子清洗/刻蝕機產生等離子體的裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電場，用真空泵實現一定的真空度，隨著氣體愈來愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離也愈來愈長。

受電場作用，它們發生碰撞而形成等離子體，這些離子的活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學鍵，在任何暴露的表面引起化學反應，不同氣體的等離子體具有不同的化學性能，如氧氣的等離子體具有很高的氧化性，能氧化光刻膠反應生成氣體，從而達到清洗的效果；腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性，這樣就能滿足刻蝕的需要。

利用等離子處理時會發出輝光，故稱之為輝光放電處理。

等離子體清洗技術的最大特點是不分處理對象的基材類型，均可進行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料，如聚丙烯、聚酯、聚醯亞胺、聚氯乙烷、環氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，並可實現整體和局部以及復雜結構的清洗。