㈠ 反滲透如何進行自動沖洗
沖洗電磁閥是控制濃水流量的,系統定時或則某個條件滿足(水滿、開機、關機等)時,內沖洗電磁閥打開容,其實是把濃水的一個旁路打開,短時間增加濃水排放量,從而增加膜內流速,達到沖洗反滲透膜的作用。
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㈡ 反滲透裝置的反滲透裝置的清洗方法
反滲透技術因具有特殊的優越性而得到日益廣泛的應用。反滲透凈水設備的清洗問題可能使許多技術力量不強的用戶遭受損失,所以要做好反滲透裝置的管理,就可以避免出現嚴重的問題。
1.低壓沖洗反滲透裝置
定期對反滲透裝置進行大流量、低壓力、低pH值的沖洗有利於剝除附著在膜表面上的污垢,維持膜性能,或當反滲透裝置進水SDI突然升高超過5.5以上時,應進行低壓沖洗,待SDI值調至合格後再開機。
2.反滲透裝置停運保護
由於生產的波動,反滲透裝置不可避免地要經常停運,短期或長期停用時必須採取保護措施,不適當地處理會導致膜性能下降且不可恢復。
短期保存適用於停運15d以下的系統,可採用每1~3d低壓沖洗的方法來保護反滲透裝置。實踐發現,水溫20℃以上時,反滲透裝置中的水存放3d就會發臭變質,有大量細菌繁殖。因此,建議水溫高於20℃時,每2d或1d低壓沖洗一次,水溫低於20℃時,可以每3d低壓沖洗一次,每次沖洗完後需關閉凈水設備反滲透裝置上所有進出口閥門。
長期停用保護適用於停運15d以上的系統,這時必須用保護液(殺菌劑)充入凈水設備反滲透裝置進行保護。常用殺菌劑配方(復合膜)為甲醛10(質量分數)、異噻唑啉酮20mg/L、亞硫酸氫鈉1(質量分數)。
3.反滲透膜化學清洗
在正常運行條件下,反滲透膜也可能被無機物垢、膠體、微生物、金屬氧化物等污染,這些物質沉積在膜表面上會引起凈水設備反滲透裝置出力下降或脫鹽率下降、壓差升高,甚至對膜造成不可恢復的損傷,因此,為了恢復良好的透水和除鹽性能,需要對膜進行化學清洗。
一般3~12個月清洗一次,如果每個月不得不清洗一次,這說明應該改善的預處理系統,調整的運行參數。如果1~3個月需要清洗一次,則需要提高設備的運行水平,是否需要改進預處理系統較難判斷。
㈢ 純水系統反滲透怎樣加葯清洗
反滲透系統的維護與清洗
反滲透水處理是一種先進的脫鹽技術,即可應版用於生水脫鹽、權純凈水制備,也可用於廢水處理、污水回收。它和離子除鹽的本質區別在於它是一種物理脫鹽,具有操作簡單、運行經濟、沒有污染有利於環境保護等特點,同時可大大降低生產人員的勞動強度,提高生產效率。
反滲透膜元件的維護:
膜元件的維護歸納為兩個大的方面:一是反滲透的預處理,二是反滲透設備的沖洗、清洗及保養。
反滲透設備的預處理
反滲透系統的預處理,首先要根據原水水質情況配置預處理設備,這一點對整個系統的安全性至關重要。
㈣ 為什麼要對反滲透進行沖洗
給水進入反滲透系統後分成兩路,一路透過反滲透膜表面變成產水,另一路沿反滲回透膜表答面平行移動並逐漸濃縮,在這些濃縮的水流中包含了大量的鹽分,甚至還有有機物、膠體、微生物和細菌、病毒等。在反滲透系統正常運行時,給水/濃水流沿著反滲透膜表面以一定的流速流動,這些污染物很難沉積下來,但是如果反滲透系統停止運行,這些污染物就會立即沉積在膜的表面,對膜元件造成污染。膜表面產生的污垢將加速系統性能下降,如減少產水流量,降低脫鹽率,進水和濃水間壓差增加。利用干凈的水源對膜元件表面進行停運沖洗,以防止這些污染物的沉積。
㈤ 反滲透系統應多久清洗一次
格瑞水務為您解答:一般情況下,當標准化通量下降10~15%時,或系統脫鹽率下降10~15%,或操作壓版力及段間壓權差升高10~15%,應清洗RO系統。清洗頻度與系統預處理程度有直接的關系,當SDI15<3時,清洗頻度可能為每年4次;當SDI15在5左右時,清洗頻度可能要加倍但清洗頻度取決於每一個項目現場的實際情況。
㈥ 反滲透可以洗嗎 的的
給水進入反滲透系統後分成兩路,一路透過反滲透膜表面變成產水專,另一路沿反滲透膜表屬面平行移動並逐漸濃縮,在這些濃縮的水流中包含了大量的鹽分,甚至還有有機物、膠體、微生物和細菌、病毒等。在反滲透系統正常運行時,給水/濃水流沿著反滲透膜表面以一定的流速流動,這些污染物很難沉積下來,但是如果反滲透系統停止運行,這些污染物就會立即沉積在膜的表面,對膜元件造成污染。膜表面產生的污垢將加速系統性能下降,如減少產水流量,降低脫鹽率,進水和濃水間壓差增加。利用干凈的水源對膜元件表面進行停運沖洗,以防止這些污染物的沉積。
㈦ 如何進行超濾膜的反沖洗反滲透膜呢
如何進行超濾膜的反沖洗?
一、用泵將干凈、無游離氯的反滲透產品水從清洗箱(或相應水源)打入壓力容器中並排放幾分鍾。
二、用干凈的產品水在清洗箱中配製清洗液。
三、將清洗液在壓力容器中循環1小時或預先設定的時間。
四、清洗完成以後,排凈清洗箱並進行沖洗,然後向清洗箱中充滿干凈的產品水以備下一步沖洗。
五、用泵將干凈、無游離氯的產品水從清洗箱(或相應水源)打入壓力容器中並排放幾分鍾。
六、在沖洗反滲透系統後,在產品水排放閥打開狀態下運行反滲透系統,直到產品水清潔、無泡沫或無清洗劑(通常15~30分鍾)。
七、按照常規進行超濾膜保存。
反滲透膜怎麼清洗?
物理清洗方法:
1.停止裝置
緩慢地降低操作壓力,逐步停止裝置。急速停車造成的壓力急速下降會形成水錘,將會對管道、壓力容器以及膜元件造成沖擊性損傷。
2.調節閥門
首先全開濃縮水閥門;然後關閉進水閥門;接著全開產水閥門(如關閉系統後關閉了產水閥門)。如果錯誤的關閉產水閥門,壓力容器中的後端的膜元件可能因為產水背壓而造成膜元件機械性損傷。
3.清洗作業
首先啟動低壓清洗泵;然後緩慢地打開進水閥,同時觀察濃縮水流量計的流量;調節進水閥門直至流量和壓力調節到設計值;最後在10-15分鍾後慢慢地關閉進水閥門,停止進水泵。
㈧ RO反滲透膜需要反沖洗嗎
RO反滲透膜清洗處理是一個細致而又煩雜的工作,且多次清洗易損壞。由於一根膜殼回中通常不是答一根膜,所以這些膜的污染情況也存在差別,因此清洗效果差,而且還容易形成交叉污染。為了減輕清洗工作,必須要搞好前置預處理,嚴格把好水質關。
RO反滲透膜作為深層的過濾手段,其表面不可避免的會殘留有膠體、微生物、雜質顆粒及難溶鹽類在其表面的析出,因此,在多種領域使用的反滲透裝置,及時制定有效的RO反滲透膜清洗技術方案是有一定必要的,對於不同的設備系統只是清洗周期的長短不同而已。
RO反滲透膜污堵主要原因是由於膜面沉積和微生物的滋長而引起的。其中微生物不僅堵塞膜,並對醋酸纖維素有侵蝕損害作用。因此,在膜內必須保持一定的余氯量,但是余氯太高,又會引起膜性能下降,故而需要控制在合適的區間內。
㈨ 反滲透膜清洗原理是正洗還是反洗
反滲透膜表面容易被懸浮物,膠體和鹽垢污染。在反滲透系統之前,要對原水進行預處理,以盡可能地避免膜表面的污染。最佳的操作條件(產水流速、壓力、回收率和pH值)對於減少膜表面的污染起到非常重要的作用。一旦預處理過的原水中具有較高的SDI15(即使在允許的范圍內)值,隨著運行時間的增加,反滲透膜表面的污垢將會導致膜元件性能的下降,原水水質的巨大波動或者錯誤的系統操作同樣可以導致上述問題的出現膜表面污染會導致系統性能下降,例如,較低的產水流量和/淢較高的溶質透過率和或原水和濃水之間的壓差增大等。
清洗時間的確定:為了使清洗工作取得最好的效果,膜元件必須在大量污垢產生前進行清洗。如果清洗工作延誤太晩,那麼將非常困難或者不可能從膜表面上徹底清除污垢並重新恢復膜性能至初始的狀態。
反滲透膜清洗原理
系統某段的進水和濃水的壓差上升到初始壓差值的150%
標准化的產水量降低了10%
標准化的鹽透率增加了20%
有些情況下,稱量膜元件的重量可以方便快速的確定膜是昋被污染,如果膜元件重量比新膜重量大很多,此時可以確定污染已經發生。
當確定了膜表面的污染物類型後,就必須選擇相應的清洗程序。如果認為污垢是金屬氫氧化物,比如:氫氧化鐵或者鈣垢,那麼可以採用檸檬酸清洗;如果確定污垢為有機物或者微生物,那麼建議使用鹼性清洗方法。
採用低壓、高流量的沖洗方法來去除膜表面最普通的灰塵。在顯著的性能衰減之前使用該方法,對於消除輕度的有機物污染也是非常有效的。最好在反滲透系統停機後沖洗幾個小時,以便於從膜表面分離污垢層。
㈩ 反滲透如何反洗
反滲透膜正常運行一段時間後,反滲透膜元件會受到給水中可能存在懸浮物或難溶鹽的污染,這些污染中最常見的碳酸鈣沉澱、硫酸鈣沉澱、金屬(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)氧化物沉澱、硅沉積物、無機或有機沉積混合物、NOM天然有機物質、合成有機物(如:阻垢劑/分散劑,陽離子聚合電解質)微生物藻類、黴菌、真菌)等污染。污染性質和污染速度取決於各種因素,如給水水質和系統回收率。通常污染是漸進發展的,如不盡早控制,污染將會在相對較短的時間內損壞膜元件。當膜元件確證已被污染,或是臨時停機之前,或是作為定期日常維護,建議對膜元件進行清洗。當反滲透系統(或裝置)出現以下症狀時,需要進行化學清洗或物理沖洗:正常給水壓力下,產水量較正常值下降10-15%,為維持正常的產水量,經溫度校正後的給水壓力增加10-15%,產水水質降低10-15%,透鹽率增加10-15%,給水壓力增加1015%,系統各段之間壓差明顯增加。
已受污染的反滲透膜的清洗周期根據現場實際情況而定。正常的清洗周期是每3-12個月一次。當膜元件僅僅是發生了輕度污染時,重要的清洗膜元件。重度污染會因阻礙化學葯劑深入滲透至污染層,影響清洗效果。
清洗何種污染物以及如何清洗要根據現場污染情況而進行。對於幾種污染同時存在復雜情況,清洗方法是採用低PH和高PH清洗液交替清洗(應先低PH後高PH值清洗)
污染物情況分析:1碳酸鈣垢:碳酸鈣垢是一種礦物結垢。當阻垢劑/分散劑添加系統出現故障時,或是加酸pH調節系統出故障而引起給水pH增高時,碳酸鈣垢有可能沉積出來。盡早地檢測碳酸鈣垢,對於防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的早期檢測出的碳酸鈣垢可由降低給水的pH值至3-5運行1-2小時的方法去除。對於堆積時間長的碳酸鈣垢,可用低pH值的檸檬酸溶液清洗去除。2硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢:硫酸鹽垢是比碳酸鈣垢硬很多的礦物質垢,且不易去除。硫酸鹽垢可在阻垢劑/分散劑添加系統出現故障或加硫酸調節pH時沉積出來。盡早地檢測硫酸鹽垢對於防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的硫酸鋇和硫酸鍶垢較難去除,因為它幾乎在所有的清洗溶液中難以溶解,所以,應加以特別的注意以防止此類結垢的生成。3金屬氧化物/氫氧化物污染:典型的金屬氧化物和金屬氫氧化物污染為鐵、鋅、錳、銅、鋁等。這種垢的形成導因可能是裝置管路、容器(罐/槽)腐蝕產物,或是空氣中氧化的金屬離子、氯、臭氧、鉀、高錳酸鹽,或是由在預處置過濾系統中使用鐵或鋁助凝劑所致。4聚合硅垢:硅凝膠層垢由溶解性硅的過飽和態及聚合物所致,且非常難以去除。需要注意的這種硅的污染不同於硅膠體物的污染。硅膠體物污染可能是由與金屬氫氧化物締合或是與有機物締合而造成的硅垢的去除很艱難,可採用傳統的化學清洗方法。現有的化學清洗葯劑,如氟化氫銨,已在一些項目上得到勝利的使用,但使用時須考慮此方法的操作危害和對設備的損壞,加以防護措施。5膠體污染:膠體是懸浮在水中的無機物或是有機與無機混合物的顆粒,不會由於自身重力而沉澱。膠體物通常含有以下一個或多個主要組份,如:鐵、鋁、硅、硫或有機物。6非溶性的天然有機物污染(NOM),非溶性天然有機物污染(NOMNaturOrganicMatter)通常是由地表水或深井水中的營養物的分解而導致的有機污染的化學機理很復雜,主要的有機組份或是腐植酸,或是灰黃霉酸。非溶性NOM被吸附到膜表面可造成RO膜元件的快速污染,一旦吸收作用發生,漸漸地結成凝膠或塊狀的污染過程就會開始。7微生物堆積:有機堆積物是由細菌粘泥、真菌、黴菌等生成的這種污染物較難去除,尤其是給水通路被完全堵塞的情況下。給水通路堵塞會使清潔的進水難以充分均勻的進入膜元件內。為抑制這種沉積物的進一步生長,重要的不只要清潔和維護RO系統,同時還要清潔預處理、管道及端頭等。對膜元件採用氧化性殺菌時,使用認可的殺菌劑。
清楚污染物慣例清洗液介紹1.[溶液1]2.0%W檸檬酸(C6H8O7低pH)pH值為3-4清洗液。以於去除無機鹽垢(如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等)金屬氧化物/氫氧化物(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)及無機膠體十分有效。
2.[溶液2]0.5%W鹽酸低pH清洗液(pH為2.5)主要用於去除無機物垢(如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等)金屬氧化物/氫氧化物(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)及無機膠體。這種清洗液比溶液1要強烈些,因為鹽酸(HCl)為強酸。3[溶液3]0.1%W氫氧化鈉高pH清洗液(pH為11.5)用於去除聚合硅垢。這一洗液是一種較為強烈的鹼性清洗液。4.[溶液4]氫氧化鈉-EDTA四鈉-六偏磷酸鈉清洗液。
清洗步驟:先用殺菌劑如1227清洗,再用溶液1清洗,再用溶液4清洗,最後用水沖洗至中性,所用水應為反滲透產水。