半導體高純水是什麼

① 超純水指的是什麼水

超純水指的是電阻率達到18 MΩ＊cm（25℃）的水。

超純水指的是純度極高的水。這是一種工業用水，集成電路工業中用於半導體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制備和矽片氧化用的水汽源等。此外，其他固態電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等的製作也都要使用超純水。

用途

純度極高的水。集成電路工業中用於半導體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制備和矽片氧化用的水汽源等。此外，其他固態電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等的製作也都要使用超純水。

超純水，是一般工藝很難達到的程度，採用預處理、反滲透技術、超純化處理以及後級處理四大步驟，多級過濾、高性能離子交換單元、超濾過濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法，電阻率方可達18。

② 半導體超純水設備電去離子（EDI）系統的工作原理

電去離子（EDI）系統，一種利用直流電場與隔板結合，對水質進行凈化的技術。這一過程在一對電極之間進行，以陰陽膜和隔板組成濃室與淡室，通過膜的選擇性滲透實現離子的定向移動。淡室中，陽離子移動至負極透過陽膜，被濃室中陰膜截留；陰離子移動至正極透過陰膜，同樣被濃室中陽膜截留。隨著淡水在淡室中離子逐漸減少，濃度提升，而濃水中離子濃度不斷上升，成為濃縮水，以此方式達到水凈化的目的。

EDI系統通過陽膜和陰膜的特性，實現對水中離子的高效分離。陽膜允許陽離子通過，而陰膜則允許陰離子通過，通過這一機制，系統能夠將水中的離子逐一篩選，從而實現水質的提純。在EDI系統中，離子在電場作用下發生定向遷移，通過膜的選擇性滲透作用，實現了對水中離子的分離，進而實現水的凈化。

這一技術的核心在於其能夠實現水的連續凈化，無需添加化學葯劑，減少能耗，同時，能夠有效地去除水中的離子，達到高純度水的生產。通過EDI系統，可以實現水的深度凈化，適用於半導體行業、醫葯、生物技術等領域對水質要求極高的應用。

綜上所述，電去離子（EDI）系統通過直流電場與隔板、膜的結合，實現對水中的離子進行高效、選擇性地分離，從而實現水的提純與凈化，滿足不同行業對水質的高要求。這一技術不僅環保，而且在工業應用中展現出其高效、節能的特點，成為現代水處理技術的重要發展方向。

半導體(semiconctor)，指常溫下導電性能介於導體與絕緣體之間的材料。半導體材料很多，按化學成分可分為元素半導體和化合物半導體兩大類。鍺和硅是最常用的元素半導體;化合物半導體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：砷化鎵、磷化鎵等;Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化鎘、硫化鋅等;氧化物：錳、鉻、鐵、銅的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體：鎵鋁砷、鎵砷磷等。除上述晶態半導體外，還有非晶態的玻璃半導體、有機半導體等。[1]

③ 高純水設備高純水設備（EDI）概述

EDI高純水設備，作為反滲透設備後的二次除鹽設備，被廣泛應用於微電子工業、半導體工業、發電工業、制葯行業和實驗室等眾多領域。其能夠製取出高達10-18.2MΩ.CM的超純水，滿足了不同行業對高純水的高標准需求。

在微電子工業中，高純水是晶元製造過程中不可或缺的關鍵原料，直接關繫到產品的性能與穩定性。EDI設備通過電滲析原理，將離子交換膜與離子選擇性樹脂相結合，實現對水中的離子有效去除，從而提供純凈度極高的超純水。

半導體工業同樣對高純水有極高要求，從晶片清洗到製造過程中的化學反應，每一環節都離不開純凈的水。EDI設備的高效除鹽能力，確保了半導體製造過程中的純凈水質，對於提升產品性能、降低生產成本具有重要意義。

發電工業中，鍋爐補給水的純凈度直接影響到熱效率與設備壽命。EDI設備能夠去除水中的離子雜質，提供純凈的補給水，保證了發電系統的穩定運行與高效能。

在制葯行業中，高純水是生產高質量葯品的必要條件之一。從葯物配製到清洗設備，都需要純凈的水以保證葯品的純度和安全。EDI設備通過精細的除鹽過程，確保了制葯過程中使用的水質量，支持了葯品生產的高標准。

此外，EDI設備還被應用於食品飲料生產、實驗室研究等眾多領域。無論是為食品飲料提供純凈的生產用水，還是為科學研究提供高質量的實驗用水，EDI設備都能滿足不同應用場景對高純水的需求，為各行業提供了可靠的水處理解決方案。

④ 超純水是什麼

超純水又稱UP水，是指電阻率達到18MΩ*cm（25℃）的水。這種水中除水分子外，不含其它雜質，如細菌、病毒、含氯二惡英等有機物，也沒有人體所需的礦物質等微量元素，即是去除氧和氫以外所有原子的水。可用於超純材料（半導體元件材料、納米精細陶瓷材料等）應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術的制備過程。

⑤ 超純水是什麼

超純水（ultrapure water）又稱高純水，是指將水中的導電介質幾乎全部去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體和有機物均去除至很低程度的水。超純水的含鹽量在0.1mg/L以下，電導率小於0.1μs/cm。

超純水作為所有的實驗用水都可以，特別是高靈敏度ICP/MS、ppt級分析、同位素分析、疾控中心、葯檢所、質檢所、環監站、高校科研等標准實驗室及各種高端精密儀器用水。

物質介紹

超純水：既將水中的導電介質幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水。電阻率大於18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm極限值（25℃）。

超純水，是一般工藝很難達到的程度，採用預處理、反滲透技術、超純化處理以及後級處理四大步驟，多級過濾、高性能離子交換單元、超濾過濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法，電阻率方可達18.25MΩ*cm（25℃）。

超純水是美國科技界為了研製超純材料（半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等）應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術生產出來的水，這種水中除了水分子（H20）外，幾乎沒有什麼雜質，更沒有細菌、病毒、含氯二惡英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質微量元素，一般不可直接飲用，對身體有害，會析出人體中很多離子。

製作流程

超純水是指下列雜質含量極低的水：①無機電離雜質，如 Ca、Mg、Na、K、Fe2+、Fe3+、Mn、Al、HCO、CO、SO、Cl、NO、NO、SiO、PO等；②有機物，如烷基苯磺酸、油、有機鐵、有機鋁以及其他碳氫化合物等；③顆粒，如塵埃、氧化鐵、鋁、膠體硅等；④微生物，如細菌、浮游生物和藻類等；⑤溶解氣體，如N2、O2、CO2、H2S等。超純水中電離雜質的含量用水的電阻率數值來衡量。理論上，純水中只有H離子和OH離子參加導電。在25℃時超純水的電阻率為 18.3（兆歐·厘米），一般約為15～18（兆歐·厘米）。

超純水中有機物含量由測定有機物碳含量而定，電子工業超純水中規定含量為50～200微克/升，並要求直徑大於1微米的顆粒性物質每1毫升內含量為1～2個，微生物每1毫升為0～10個。現代採用預處理、電滲析、紫外線殺菌、反滲透、離子交換、超濾和各種膜過濾技術等，使超純水的電阻率在25℃時達到18（兆歐·厘米）。

依各種原水水質和用戶要求的不同，超純水的制備工藝大體可分為預處理、脫鹽和精處理三步。

應用領域

1、電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制葯、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。

2、化工工藝用水、化學葯劑、化妝品等用純水。

3.單晶硅、半導體晶片切割製造、半導體晶元、半導體封裝 、引線櫃架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產品及各種元器件等生產工藝用純水。

4、高壓變電器的清洗等。

區別介紹

純水是指既將水中易去除的強電介質去除，又將水中難以除去的硅酸及二氧化碳等弱電解質去除至一定程度的水。純水的含鹽量在1.0mg/L以下，電導率小於50μs/cm。

超純水（高純水）是指將水中的導電介質幾乎全部去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體和有機物均去除至很低程度的水。高純水的含鹽量在0. 3mg/L以下，電導率小於0. 2μs/cm。