㈠ 一超純水的吸光度是多少
接近於0,有時候空白校準零值就是這么做的。
用分光光度法測量銅離子或鐵回離子時，試驗方法答提到以高純水為參比測定其吸光度，這是不是指進行分光光度計調節時，將高純水推入光路調節100%透光比。還是指水樣顯色反應後測得到的吸光度減去高純水作為水樣進行顯色反映後測得的吸光度？
「進行分光光度計調節時，將高純水推入光路調節100%透光比」這是正確的做法
「水樣顯色反應後測得到的吸光度減去高純水作為水樣進行顯色反映後測得的吸光度」這是正確的原理，lz說的對
㈡ 超純水超純水
超純水的製取工藝流程有多種，主要包括傳統和膜法兩種。
傳統工藝流程一般為：原水首先經過預處理，包括多介質過濾器和活性炭過濾器，去除懸浮物和有機物，接著經過一級除鹽，如混床處理，最後通過拋光樹脂進一步凈化，達到超純水標准。
膜法工藝則更為高效，首先進行超濾和微濾，以替代石英砂過濾器和活性炭過濾，降低濁度和SDI、COD等指標，保證反滲透裝置的穩定運行。反滲透環節可有效去除大部分雜質，包括有機物和膠體，為後續的EDI（電除鹽）提供高質量的進水。EDI通過電再生樹脂，避免了酸鹼再生帶來的二次污染，進一步提升水質。
在實驗室用水標准方面，我國《分析實驗室用水規格和實驗方法》（GB6682-92）對一級水、二級水和三級水的純度有嚴格要求。一級水的電阻率需大於10 MΩ·cm，電導率小於0.1 us/cm，可氧化物含量極低，吸光度和二氧化硅含量也很低，蒸發殘渣限制在一定范圍內。
無論是哪種工藝，其目標都是確保最終產出的超純水滿足高標準的實驗室或特定應用需求。
純度極高的水。集成電路工業中用於半導體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制備和矽片氧化用的水汽源等。此外，其他固態電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等的製作也都要使用超純水。
㈢ 上述血清中K含量是否正常
血清中K含量是否正常？
某次實驗採用原子吸收光譜法對血清中的K進行測定的實驗步驟為:(a)將0.1mL血清用超純水稀釋100倍並在其中加入0.1mL10mg/mLNaCl溶液;(b)取上述處理後樣品,測得其吸光度為0.625;(c)取上述處理後樣品10mL,在其中加入0.1mL0.15mg/mL的KCl溶液,測得其吸光度為1;請閱讀以上實驗步驟並回答問題:(1)上述步驟a的目的。(2)上述血清中K含量是否正常?(血清中K離子的濃度參考值為:3.5~~5.5mmol/L,請寫出詳細計算過程。)
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醫學
㈣ 實驗室超純水機的各類水質
超純水機技術指標如下：
1、水質標准
符合國家實驗室用水GB6682-2008Ⅲ級水標准，超專純水：電阻屬率12-17MΩ·cm@25℃，水質符合國家實驗室用水GB6682-2008Ⅰ級水標准純水，符合中國國家實驗室用水GB6682-2008Ⅲ級水標准。
超純水：電阻率18.25MΩ·cm@25℃，優於中國國家實驗室用水規格GB6682-2008的Ⅰ級水標准，以及美國ASTM，NCCLS，CAP試劑級純水標准。吸光度
(254nm，1cm光程)：≤0.001，可溶性硅[以(SiO2)計]：<0.1ppb。
2、工作條件
源水城市自來水(TDS≥300時增配強化預處理單元)，溫度5-40℃、源水壓力1～5kg/cm2，工作電源：220V/50HZ，電功率：30-80W，水量BTP-T型產水量10/20/30/40L/H取水流速1.5-2.0L/min(可調)。
㈤ 純水和超純水的pH值該如何檢測
1、攪拌速度：PH值反映的是H+的活度，(H+)而不是H+的濃度[H+]，其關系為(H+)=f×[H+]。F為H+的活度系數。它是由溶液中所有離子的總濃度決定而不只決定於被測離子的濃度。在理論純水中活度系數f等於1，但只要有其它離子存在，活度系數就要改變，PH值也就會改變。即PH值受溶液中總的離子濃度的影響，總離子濃度變化，PH值就要改變。由於復合電極液接界很靠近PH敏感玻璃球泡，從液接界滲漏出的鹽橋溶液首先聚集在敏感球泡周圍，改變了其附近的總離子濃度，由上述原因可知，使用測量值只是敏感球泡附近的被改變了PH值，不能反映其真實的PH值。雖然採用攪拌或搖動燒杯的方法可以改變這種情況，但實踐證明，攪拌速度不同，測試的值也會不一樣，同時攪拌或搖動又會加速CO2的溶解，所以也不可取。 2、高濃度3mol/L的Kcl：由於純水中離子濃度非常低，而參比電極鹽橋溶液選中高濃度3mol/L的Kcl，相互之間的濃度差較大，與它在普通溶液中的情況差別很大。在純水會加大鹽橋溶液的滲透速度，促使鹽橋的損耗，從而加速了K+和CL-的濃度的降低。引起液接界電位的變化和不穩定，而Ag/AgCl參比電極本身的電位取決於CL-的濃度。CL-濃度發生了變化，其參比電極自身電位也會隨之變化，於是就使得示值漂移，特別是不能補充內參比液的復合電極更會如此。 3、Kcl濃度的降低：為了保證復合電極的pH零電位，鹽橋必須採用高濃度的Kcl，同時為了防止Ag/AgCl鍍層被高濃度的Kcl溶解，在鹽橋中又必須添加粉末狀的AgCl，使鹽橋溶液被AgCl飽和。但是根據上述第1條所述，由於鹽橋溶液中Kcl濃度的降低，又使原本溶解在其中的AgCl過飽和而沉澱，從而堵塞液接界。 4、易受污染：純水很容易受到污染，在燒杯中敞開測量，很容易受到CO2吸收的影響，PH值會不停地往下降，有關國際標准規定測量必須在一個特殊的裝置中密閉中進行，但在一般實驗室中難於實行。