一、概念不同
1、純水
純水是具有一定結構的液體,雖然它沒有剛性,但它比氣態水分子的排列有規則得多。在液態水中,水的分子並不是以單個分子形式存在,而是有若干個分子以氫鍵締合形成水分子簇,因此水分子的取向和運動都將受到周圍其他水分子的明顯影響。
對於水的結構還沒有肯定的結構模型,目前被大多數接受的主要有3 種: 混合型、填隙式和連續結構(或均勻結構)模型。
2、蒸餾水
蒸餾水是指經過蒸餾、冷凝操作的水,蒸二次的叫重蒸水,三次的叫三蒸水。低耗氧量的水,加入高錳酸鉀與酸工業蒸餾水是採用蒸餾水方法取得。
二、應用不同
1、純水
其主要應用在生物、化學化工、冶金、宇航、電力等領域,但其對水質純度要求相當高,所以一般應用最普遍的還是電子工業。例如電力系統所用的純水,要求各雜質含量低達到「微克/升」級。
在純水的製作中,水質標准所規定的各項指標應該根據電子(微電子)元器件(或材料)的生產工藝而定(如普遍認為造成電路性能破壞的顆粒物質的尺寸為其線寬的1/5-1/10)。
但由於微電子技術的復雜性和影響產品質量的因素繁多,至今尚無一份由工藝試驗得到的適用於某種電路生產的完整的水質標准。
2、蒸餾水
有時候為了特殊目的,在蒸前會加入適當試劑,如為了無氨水,會在水中加酸;低耗氧量的水,加入高錳酸鉀與酸等。工業蒸餾水是採用蒸餾水方法取得的純水,一般普通蒸餾取得的水純度不高,經過多級蒸餾水,出水才可達到很純,成本相對比較高。
三、製作方法不同
1、純水
在高純水的生產過程中,水中的陰、陽離子可用電滲析法、反滲透法及離子交換樹脂技術等去除;水中的顆粒一般可用超過濾、膜過濾等技術去除;水中的細菌,目前國內多採用加葯或紫外燈照射或臭氧殺菌的方法去除;水中的TOC則一般用活性炭、反滲透處理。
在高純水應用的領域中,水的純度直接關繫到器件的性能、可靠性、閾值電壓,導致低擊穿,產生缺陷,還影響材料的少子壽命,因此高純水要求具有相當高的純度和精度。
2、蒸餾水
自然界中的水都不純凈,通常含有鈣、鎂、鐵等多種鹽,還含有機物、微生物、溶解的氣體(如二氧化碳)和懸浮物等。用蒸餾方法可以除去其中的不揮發組成。用蒸餾法,並配合以下一些措施,可以獲取質量較高的蒸餾水。
①排去初始餾分(約占原水的20%),因為揮發組分主要集中在初始餾分中。
②排去殘留部分(約占原水的20%),因為很多不揮發組分集中在殘留水中。
③添加某些物質以利於蒸餾。例如,添加NaOH,使水中的CO2變成難揮發組分,添加KMnO4可氧化水中的有機物。
㈡ 請問MilliQ水 是什麼水,用別的什麼水可以代替嗎
MilliQ水屬於超純水。無法替代被其他水替代。
超純水又稱UP水,是指電阻率達到18 MΩ內*cm(25℃)的水容。這種水中除了水分子外,幾乎沒有雜質,更沒有細菌、病毒、含氯二惡英等有機物,也沒有人體所需的礦物質微量元素,幾乎去除氧和氫以外所有原子的水。
可以用於超純材料(半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等)應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術的制備過程。
(2)Milliq純水紫外燈怎麼更換擴展閱讀:
應用
超純水可以在以下領域使用 :
1、電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生、物、制葯、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。
2、化工工藝用水、化學葯劑、化妝品等。
3、單晶硅、半導體晶片切割製造、半導體晶元、半導體封裝、引線櫃架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產品及各種元器件等生產工藝。
4、高壓變電器的清洗等。
參考資料來源:網路-超純水
㈢ 高純水,MILLIQ水都是怎麼獲得的
看哪個型號。
如果是一體機,按順序:1.預處理柱去除顆粒物,硬度,氯。2.RO膜反滲透除去大內部分污染物,一容般Millipore的膜截留率新膜都可以達到97%以上,一旦低於92%就報警需要更換了。3.如果為elix等儀器還要帶edi,進一步去除離子使電阻率大於5兆歐.cm以上,一般新機都可以達到15MΩ.cm。到這里一般純水部分就完了。4.後面就用兩個混床樹脂離子柱(一個預柱,一個精製柱),把水質電阻率抬到18.25MΩ.cm。5.兩個柱中間插一根紫外燈,為了降低toc和殺菌。之後就是特有的6種終端可選,有除菌,除熱源,除有機,除離子等可供選擇。最終就製成超純水了。