超純水設備濃水室結垢怎麼清洗

Ⅰ edi出問題了

先問一下 能把你的預處理說出來嗎

1、 EDI在運行中，如果將較差的給水引進組件，或者電源不足，就會增加維修工作量。
2、 給水中主要引起結垢的是TOC，硬度和鐵。
3、 給水硬度較高將引起離子交換濃水側結垢，而使純水水質降低。同時給水硬度，溶解的CO2和高PH會加速結垢。可以用適當的酸溶液清洗污垢。
4、 給水中的有機物污染，會在離子交換樹脂和離子交換膜表面形成薄膜，將嚴重影響離子遷移速率，從而影響純水水質。當發生此現象時，純水室需要適當的清洗。
5、 如果EDI組件在無電或給電不足的情況下運行，交換床內離子處於離子飽和狀態，純水的純度會降低。為了再生離子交換樹脂，需將水流通過組件，並慢慢增加電源供應電壓，使被吸附的離子遷移出系統。樹脂再生時，組件將通過比正常運行更多的電流。
警告：如果電源沒有過電流保護，注意不要超過電源的供電容量。
6、 電極連接器應該定期檢查，以防由周圍條件引起的腐蝕或鬆弛，以免增加電阻，阻礙電流渡過，導致純水水質下降。
7、 若膜外部需要清洗請注意以下幾點：
 禁止使用丙酮或其它的溶劑。
 當電源開啟時禁用水清洗。
 擦洗時使用潮濕的布，可浸少量清潔劑。
 注意保護安全標簽。

三、 EDI濃水側結垢酸清洗方法：
在濃水循環箱內配製50升2.5%濃度的HCL溶液（50L去離子水，3500ml37%分析純HCL溶液，注意先加水後加酸），開啟濃水泵循環清洗3分鍾（濃水壓力控制在0.1Mpa以下），然後停泵用清洗液浸泡15分鍾，再開啟泵循環5分鍾。最後排放清洗液，用去離子水沖洗殘留的清洗液。

四、 EDI膜塊的再生過程：
在清洗、停機或膜塊電壓過低（或被關閉）時，膜塊內部的樹脂可能會被離子消耗盡，這時候模塊需要再生。
再生過程將樹脂中多餘的離子帶出膜塊，使膜塊在穩定狀態下運行。再生過程在短時間內大幅度地改變系統參數，將樹脂中多餘的離子帶出膜塊，給水離子濃度會降低，電場驅動力將增加，多餘的離子將從淡水室遷移到濃水室。

再生方法：
啟動EDI系統，使淡水流量、濃水流量控制有日常流量的一半，極水流量不變，將電流設置為通常的150%-200%。在運行1個小時後，將流量和電流恢復到日常值上（這一點非常重要）。
注意：無論何時電流不能大於6A。

Ⅱ 超純水設備中EDI膜堆可以清洗嗎

可以清洗來；在運行中，如果將較差的源給水引進膜塊，或者電源不足，就會增加維修工作量。給水中主要引起污染的是有機物、硬度和鐵。給水硬度較高將引起離子交換膜濃水側結垢，而使產水水質降低。給水硬度、溶解的CO2和高PH值會加速結垢，可以用適當的酸液清洗污垢。

給水中的有機物污染，會在離子交換樹脂和離子交換膜表面形成薄膜，因而將嚴重影響離子遷移速率，因此影響產水水質。當發生此現象時，淡水室需用適當的清洗劑清洗。有機物清洗過程請參考附錄。如果 EDI 膜塊在無電或給電不足的情況下運行，淡水室內離子交換樹脂處於離子飽和狀態，產水的水質會降低。為了再生離子交換樹脂，將水流通過膜塊，並慢慢增加電源供電電壓，使被吸附的離子遷移出系統從而對樹脂進行再生。樹脂再生時，膜塊應在較高電流和較低水流量的條件下運行。

Ⅲ 反滲透濃水中的鹽析出後在池底結垢後應該怎樣清除

首相考慮下用「RO酸性清洗劑」進行清洗

Ⅳ 使用EDI工業高純水設備時，操作需要注意哪些問題和普通EDI超純水設備和一樣的嗎

工業超純水上使用的EDI和普通的EDI是沒有區別的，只是用在不同的行業上而已！內

使用EDI應該注意以下：容

注意：先進行濃水系統的清洗，開啟各個膜塊濃水的進水閥、濃水的出水閥和濃水迴流閥，此時各個膜塊產水的進水閥和產水的出水閥為關閉狀態。濃水流量調節為1.7m³/h，進水壓力小於0.2Mpa（當流量和壓力不能同時滿足時，以滿足壓力為准）。

一般情況下不清洗產水系統，只是當EDI嚴重結垢或嚴重生物污染時才進行產水系統的清洗。清洗程序如下：開啟產水的進水閥、產水的出水閥、產水迴流閥，此時各個膜塊濃水的進水閥、濃水的出水閥為關閉狀態。產水流量計調節為3.4m³/h，進水壓力小於0.2Mpa（當流量和壓力不能同時滿足時，以滿足壓力為准）。

EDI的化學清洗在手動情況下完成。清洗步驟為：1酸清洗，2鹼氯清洗。

Ⅳ 純水機使用時要怎麼清洗和打理

純水機清洗和打理，柏佳凈水建議陶瓷芯可以用牙刷和清水刷，交換樹脂可以用飽和食鹽水再生，超濾 可以通過水壓的壓力反沖洗來沖洗。水管路等部件進行清洗和消毒。

Ⅵ 怎樣解決一級反滲透濃水的結垢問題

方法很多，要看你水質的具體情況處理，一般方法如下：
1.控制好整個系統的內PH，使容其處於酸性狀態，可以有效防止結垢，特別是碳酸鈣，硫酸鎂...但是這種方法的缺點是會產生二氧化碳，這在系統中試無法去除的，會腐蝕影響設備。如果控制PH處在8.2左右，可使其轉化為碳酸，然後除去，但是要注意沉澱，其平衡你自己要控制好。
2.加除垢劑。除垢劑的作用是在晶體，膠體的表面形成膜，使其不能結合，只是延緩，當離子濃度達到一定程度的時候也會結垢，發生沉澱，所以要控制好氣回收率。結垢劑加少了，起不到作用，加多了其本身也會形成沉澱，所以要控制好量，同時謹慎選擇，不同的結垢劑針對的沉澱不一樣，選擇要有針對性性。
3.加絮凝劑。PAC PAM都是很好的選擇，我平時都是交叉使用的，但是要根據反應方程式計算好量，萬不可多加，因為其本身也是污染。形成的沉澱過濾除去。
一般的 這三種方法是混合使用的。

Ⅶ 超濾膜組件的清洗方法

海綿球清洗
選擇與膜管直徑大小的海綿球，用管子通過膜管進行反復擦拭回，而且可以反復使答用。
熱水沖洗法
熱水洗滌方法將水加熱至(30-40°C)，然後沖洗膜表面，這個方法對於粘稠或熱溶性雜質去除效果很好。
超濾膜的化學法清洗，需要根據不同的污染雜質種類來選擇相對應的化學葯劑，才能達到去污效果。
鹼性溶液清洗：比較常用的鹼NaOH。配製溶液的pH約為10-12。水循環操作後可清洗或者浸泡0.5h~1h後在清洗。可有效去除雜質和油脂。
氧化劑清洗劑：超濾膜化學劑H202和NaC10是很常用的殺菌劑。選擇1%~3%H2O2、500~1000mg /
LNaC10等水溶液後在清洗，對污垢和消毒細菌很有效果。
食品工業中的蛋白質沉澱選擇胃促胰酶溶劑或磷酸鹽，硅酸鹽基鹼性洗滌劑進行，需要消毒(使用NaOH和H 2 O 2等)。
化學清洗方法和正常清洗超濾膜過程是一樣的，將相對應的清洗液倒入原液口，會自動滲入濃縮層等返回清洗液容器，一番循環後排出，再用干凈的水沖洗。

Ⅷ 純水系統反滲透怎樣加葯清洗

反滲透系統的維護與清洗
反滲透水處理是一種先進的脫鹽技術，即可應版用於生水脫鹽、權純凈水制備，也可用於廢水處理、污水回收。它和離子除鹽的本質區別在於它是一種物理脫鹽，具有操作簡單、運行經濟、沒有污染有利於環境保護等特點，同時可大大降低生產人員的勞動強度，提高生產效率。
反滲透膜元件的維護：
膜元件的維護歸納為兩個大的方面：一是反滲透的預處理，二是反滲透設備的沖洗、清洗及保養。
反滲透設備的預處理
反滲透系統的預處理，首先要根據原水水質情況配置預處理設備，這一點對整個系統的安全性至關重要。

Ⅸ 超純水系統的EDI系統怎麼清洗

1、清洗時，EDI系統的淡水室、濃水室和極水室都需要清洗。即清洗液從原水進和濃水回進清答洗口進入EDI，從「產水」、「濃水出」、「極水出」回到清洗水箱。(正洗)
2、第一步 酸洗：清洗水箱中配製2.0%鹽酸溶液，循環30分鍾。
沖洗：清洗水箱中酸洗液放掉後，將水箱中水沖洗至中性，然後將清洗進和迴流管清洗到迴流水至中性。
第二步 消毒：清洗水箱中配製0.2%的H2O2溶液(約用25% H2O2的濃10kg)循環50分鍾。
沖洗：清洗水箱中消毒液放掉後，清洗EDI至水箱中迴流水至電導率降至100μs/cm以下。
第三步：鹼洗：水箱中配製1.2%NaOH+5.0%NaCL的溶液，循環50分鍾。

Ⅹ Ionpure EDI模塊濃水室結垢清洗的方法有哪些

清洗
隨著工作時間的累積，需要對美國Ionpure EDI模塊進行清洗及消毒，這是因為：
- 硬度或金屬結垢，主要產生在濃水室內；
- 在離子交換樹脂或膜形成無機物污垢（例如，硅）；
- 在離子交換樹脂或膜形成有機物污垢；
- EDI模塊和系統管道及其它部件的生物污垢；
- 以上所有情況一起出現在某些情況下，需要使用一種以上的清洗方法。
高溫消毒
美國Ionpure EDI模塊可以在高溫(80°C/176°F)情況下進行消毒，消毒說明將同時提供給用戶。
例行的消毒最好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用於例行的消毒，只適用於嚴重的生物污堵的消毒, 消毒時先進行低濃度氧化劑消毒，再用高PH清洗。
安全
1) 避免接觸氫氧化鈉，過乙酸，過氧化氫及氯代烴等具有腐蝕性的化學物質，過氧化氫是氧化劑。
2) 將整個管線降壓以避免高壓化學葯劑噴濺。
3) EDI系統在高電壓下運行，在任何維護工作前，確保整流器不通電並鎖定。
清洗化學品規范
所有化學品應必須達到推薦使用的等級或者更好。 氯化鈉(NaCl)，食用級(≥99.80%), ACS或USP級醋酸(CH3COOOH)以及過氧化氫(H2O2)30%: ACS級,或達到水系統清洗的商用濃度。鹽酸(HCl) ACS或技術級氫氧化鈉(NaOH): 球狀, NF, ACS或凈化級; 或50% w/w 溶液