可以調節水質,預先進行鹼化處理,可以有效提高硅的去除效率,鹼化過程要注意鈣鎂鐵等離子的結垢問題。
B. 鍋爐水處理的意義,對給水指標什麼等指標的控制具有重要意義
鍋爐水處理的意義是:恰當的水處理能使鍋爐免於結垢和腐蝕,保持蒸汽回品質良好,保證鍋爐安全經答濟運行。搞好鍋爐的給水處理,同時做到合理排污,嚴格監測鍋爐給水和鍋水水質的變化,並保證鍋爐給水和鍋水各指標達到國家標准要求…。華粼水質
C. 為什麼要測定循環水和鍋爐水中的硅含量
在鍋爐水的治理過程中,對硅的參數要求主要是針對鍋爐本身及節能方面的吧,對水質本身內的影響倒不多容見。
硅是造成鍋爐及整個系統結垢的主要原因之一,結垢機理如下:
H2SiO3 ---> H+ + HSiO3-
MgOH+ + HSiO3- ---> MgSiO3 + H2O
造成結垢的主要原因是:給水中鐵、鋁、硅的化合物含量高,形成硅酸鐵等垢:
NaSiO3 + Fe3O4 Na2Fe3O4.SiO2↓
硅酸鹽如意結垢的地方主要為:鍋爐水冷壁、蒸發器等熱負荷較高的部位。熱負荷較高或水循環不良的爐管
火側的結垢比背火側嚴重
結垢後對鍋爐拱能系統造成的影響有:造成能源的浪費,容易形成垢下腐蝕,甚至爆管等安全現象。
防止的方法:降低給水中硅、鋁和其它氧化物含量
提高爐水pH,減小硅酸的溶解攜帶
D. 為什麼蒸汽鍋爐水處理,不適用硅磷晶設備。
你所講的這個「產品」應該是一種「鹼性葯劑」其實你講的就是鍋內加葯水處理方版式,對於鹼性葯權品應用到蒸汽鍋爐是有條件的,國家(GB)水質指標或標准都有一定的規定。現在的蒸汽鍋爐一般都冞用鍋外化學水處理方式處理蒸汽鍋爐用水,因為鍋外化學水處理方法(離子交換),對提高鍋爐熱效率,減少檢修費用,延長鍋爐使用壽命有顯著效果,使鍋爐無垢或薄垢運行,所以得到廣泛採用。請注意;無論採用何種(鍋內或鍋外)水處理方式,都必需做好水質分析化驗工作…。。華粼水質
E. 電廠測量爐水硅含量的意義是什麼
在鍋爐水的治理過程中,對硅的參數要求主要是針對鍋爐本身及節能方面的吧,對水質本身專的影響倒不多見。屬 硅是造成鍋爐及整個系統結垢的主要原因給水中鐵、鋁、硅的化合物含量高,形成硅酸鐵等垢, 硅酸鹽容易結垢的地方主要為:鍋爐水冷壁、蒸發器等熱負荷較高的部位。熱負荷較高或水循環不良的爐管
火側的結垢比背火側嚴重
結垢後對鍋爐拱能系統造成的影響有:造成能源的浪費,容易形成垢下腐蝕,甚至爆管等安全現象。
F. 硅含量是怎麼影響鍋爐水的水質的
在鍋爐水的治抄理過程中襲,對硅的參數要求主要是針對鍋爐本身及節能方面的吧,對水質本身的影響倒不多見。
硅是造成鍋爐及整個系統結垢的主要原因之一,結垢機理如下:
H2SiO3 ---> H+ + HSiO3-
MgOH+ + HSiO3- ---> MgSiO3 + H2O
造成結垢的主要原因是:給水中鐵、鋁、硅的化合物含量高,形成硅酸鐵等垢:
NaSiO3 + Fe3O4 Na2Fe3O4.SiO2↓
硅酸鹽如意結垢的地方主要為:鍋爐水冷壁、蒸發器等熱負荷較高的部位。熱負荷較高或水循環不良的爐管
火側的結垢比背火側嚴重
結垢後對鍋爐拱能系統造成的影響有:造成能源的浪費,容易形成垢下腐蝕,甚至爆管等安全現象。
防止的方法:降低給水中硅、鋁和其它氧化物含量
提高爐水pH,減小硅酸的溶解攜帶
G. 鍋爐爐內水處理目的是什麼
採用鍋爐爐內加葯水處理的目的;實際就是爐內熱軟化水處理方式的一種,一是將版鹼性防垢劑加入權鍋爐給水中,自然鍋水經過不斷蒸發濃縮,鍋爐底部形成了已軟化的水渣,可通過鍋爐定期排污的方法排出鍋爐體外,這一過程必須經鍋水鹼度和PH值的測試,並嚴格鍋爐鹼度含量的控制,維持好鍋水一定量的鹼度和PH值含量,其主要目的是不讓鍋爐結生水垢,排污的目的是注意二次水垢的形成。相關圖片中有鍋爐阻(防)垢劑和鍋水鹼度使用說明,使用說明內都有鍋水鹼度指標控制范圍...。
H. 循環水為什麼要測硅含量
在鍋爐水的治理過程中,對硅的參數要求主要是針對鍋爐本身及節能方面的吧,對水質本身的影響倒不多見。
硅是造成鍋爐及整個系統結垢的主要原因之一,結垢機理如下:
H2SiO3 ---> H+ + HSiO3-
MgOH+ + HSiO3- ---> MgSiO3 + H2O
造成結垢的主要原因是:給水中鐵、鋁、硅的化合物含量高,形成硅酸鐵等垢:
NaSiO3 + Fe3O4 Na2Fe3O4.SiO2↓
硅酸鹽如意結垢的地方主要為:鍋爐水冷壁、蒸發器等熱負荷較高的部位。熱負荷較高或水循環不良的爐管
火側的結垢比背火側嚴重
結垢後對鍋爐拱能系統造成的影響有:造成能源的浪費,容易形成垢下腐蝕,甚至爆管等安全現象。
防止的方法:降低給水中硅、鋁和其它氧化物含量
提高爐水pH,減小硅酸的溶解攜帶
I. 高爐煉鐵時用硅含量來判斷爐溫的理論是什麼為什麼用硅含量來判斷爐溫謝謝了
.
因為si至始至終都是吸熱反應,所以用Si來表示化學熱,來代表爐溫的高低,能間接表示爐內的熱量
J. 半導體純水為什麼對硅含量有要求
1) 本徵半導體是一種完全純凈的、結構完整的半導體晶體。絕對零度時價帶被價電子版填滿,導帶是空的。權
2) 隨著溫度的升高,本徵載流子濃度迅速地增加,在本徵時器件不能穩定工作。而對於摻雜半導體,室溫附近載流子主要來源於雜質電離,在雜質全部電離的情況下,載流子濃度一定,器件就能穩定工作。所以,製造半導體器件一般都會用含有何當雜志的半導體材料,而且每一種半導體材料製成的器件都有一定的極限工作溫度,超過這一溫度後,器件就會失效。
3) 雜質在元素半導體 Si和Ge中的作用:是半導體Si\Ge的導電性能發生顯著的改變。
復制別人的 呵呵 還是希望能幫助你