反滲透膜清洗液濃度

❶ 反滲透膜清洗，反滲透膜清洗有液配製有幾種方法

分二類：一是專用反滲透膜清洗劑，二是常規葯劑，例如檸檬酸、鹼等！濟南因科盛華！

❷ 蛋白酶清洗反滲透配比濃度多少

在正常工作運行進行一段發展時間後，反滲透膜元個會受到企業在給水中我們可能影響存在的懸浮物質或難溶物質的污染，這些主要污染物管理中最具有常見的為碳酸鈣垢、硫酸鈣垢、金屬氧化物垢、硅沉積物及有機或生物沉積物。反滲透膜如何清洗？反滲透膜該怎樣清洗？

反滲透膜清洗專用酶是通過液體深層發酵、提取精製而成的一種蛋白水解專用酶，具有很強的分解蛋白質的能力，適用於清潔納濾膜、超濾膜等膜組件中果膠類、脂類、蛋白類等結垢，達到延長膜運行時間及壽命的效果。

以「欣格瑞」系列為例而言，按照純水量的0.3%-0.5%投加，此時的水溶液PH在9左右，再添加少量的氫氧化鈉，將溶液PH調至11-12。（以上僅供參考）

反滲透膜清洗流程

1.檢查清洗罐，管路和濾芯，然後盡可能地使膜系統排水。

2.用去除礦物質或是純水充滿整個清洗罐。按照純水量的0.3%-0.5%投加，此時的水溶液PH在9左右，再添加少量的氫氧化鈉，將溶液PH調至11-12。

3.加熱清洗溶液可以提高清洗效率(不要超過110°F(40°C) )。

4.打開濃水閥，使溶液以膜或系統的供應商推薦的流速及進水方向通過膜系統。如果供應商推薦的數據無法運用，可以使用下表內的指導參數。

5.運行時間為40-50分鍾。

6.另外浸泡60分鍾。

7.如果清洗溶液變渾濁或是變色，則需要更換新鮮溶液，該溶液在額外清洗過程之前要准備好。

8.使迴流濃水閥處於工作狀態，運行膜系統直到滲透液恢復通量後排水。

反滲透膜清洗不論是物理法或化學法，都有各自的優點。在反滲透清洗過程中，清潔工作人員也會常常在我們使用進行化學清洗技術方法時，結合採用等壓沖洗和反向沖洗的方法，從而可以達到更有效提高清除膜表面的污染物的目的。

❸ 清洗一級反滲透R膜所使用的氫氧化鈉和鹽酸與水的比例是多少

不知道這些對你有沒幫助：
反滲透膜化學清洗技術
摘要：本文介紹了反滲透膜污堵的原因，反滲透裝置清洗的方法以及清洗時應該注意的問題。
關鍵詞：反滲透膜 CIP 化學清洗 污染
1、概要
在反滲透系統運行過程中，反滲透膜表面會由於原水中泥澤、膠狀物、有機物、微生物等污染物質的存在及膜分離過程中對難溶物質的濃縮而產生的沉積，進而形成對反滲透膜的污染。我們都知道，反滲透系統的預處理裝置是為盡可能多地去除引起膜污染的物質而專門設計的，盡管如此，即便系統有著相當完善的預處理設備也不能完全避免膜在使用過程中的污染，所以需要在設備運行的過程中進行周期性的去除膜系統中污染物的作業，這個操作過程就叫做反滲透系統的就地清洗（CIP，Cleaning In Place）。
反滲透膜被污染後，就會出現系統產水量減少、鹽的透過率增加等膜性能方面的衰退。但由於反滲透設備在使用過程中，影響膜性能的其它主要因素（壓力、溫度等）的變化，膜污染的現象有可能被其它因素掩蓋，因此應予以注意。
目前，市面上大部分芳香聚醯胺反滲透復合膜，在較寬的pH值范圍內具有相當的穩定性和一定的耐溫性，所以用戶可以對反滲透系統進行非常有效的清洗。多年的工程實踐表明，若不及時對已產生一定程度污染的反滲透系統進行清洗處理，想較為徹底地去除已長時間附著膜表面的污染物是非常困難的。
一般在考慮膜系統清洗方案時，應注意如下幾點：
■ 應把清洗排放廢液對環境的影響（EDTA，殺菌劑等）降低到最低限度。
■ 應盡可能使本次清洗過程去除污染物最大化。
■ 應在清洗時對膜的損傷最小化（應首先考慮選擇對膜性能 影響小的葯劑）。
■ 在實際清洗操作時，在保證清洗效果的前提條件下，盡可能使清洗費用最低化
2、反滲透膜發生污染的原因
■ 不恰當的預處理
系統配備預處理裝置相對於原水水質及流量不合適，或在系統內未配備必要的工藝裝置和工藝環節。
預處理裝置運行不正常，即系統原有的預處理設備對原水SDI成分、濁度、膠狀物等的去除能力較低，預處理效果不理想。
■ 系統選擇了不恰當的設備或設備材質選擇不正確（泵、配管及其它）。
■ 系統化學葯品注入裝置發生故障（酸、絮凝助凝劑、阻垢分散劑，還原劑及其它）。
■ 設備間斷運行或系統停止使用後未採取適當的保護措施。
■ 運行管理人員不合理的設備操作與運用（回收率、產水量、濃縮水量、壓差、清洗及其它）。
■ 膜系統內長時間的難溶沉澱物堆積。
■ 原水組份變化較大或水源特性發生了根本的改變。
■ 反滲透膜系統已發生了相當程度的微生物污染。
3、膜污染物質分析
■ 首先應認真分析在此之前所記錄的、能反映設備運行狀況的近期設備運行記錄資料。
■ 分析原水水質。
■ 確認之前已做的清洗結果。
■ 分析系統運行時在測定SDI值測試時留在濾膜上的異物質。
■ 分析反滲透系統配置的保安過濾器濾芯上的堆積物。
■ 檢查原水流入系統的配管內部和反滲透膜的進水端的異物質。
※各種污染物質結垢時的表現
（1）碳酸鹽垢
結垢後表現：標准滲透水流量下降，或是脫鹽率下降。
原因：膜表面濃差極化增加
（2）鐵錳
污染後表現：標准壓差升高（主要發生在裝置前端的膜元件），也可能引起透水量下降。通常錳和鐵會同時存在。
（3）硫酸鹽垢
若發生沉積，首先影響鹽濃度最高的系統最後面的膜元件，表現為二段壓差明顯升高。需要用專用清洗劑。
（4）硅
顆粒硅：污堵膜元件水流通道，導致系統壓差升高。採用04%二氯胺對於溶解嚴重污染的硅垢是有效的。
膠硅：與顆粒硅相似。
溶解硅：形成硅酸鹽析出，應採用二氯胺清洗。
（5）懸浮物有機物
污堵表現：透水量下降，一段壓差明顯升高。若給水SDI大於4或濁度大於1，有機物污染的可能性較大。
（6）微生物
污堵表現：標准壓差升高或標准透水量下降。可採用非氧化性殺菌劑加鹼進行清洗。
（7）鐵細菌
污堵表現：標准壓差升高。可採用EDTA鈉鹽加鹼進行清洗。
4、反滲透系統清洗時機的判斷與選擇
當有下述情況發生之—時應對反滲透膜系統予以清洗
■ 標准化後的設備產水量減少了10~15%；
■ 標准化後的膜系統運行壓力增加了15% ；
■ 標准化後的膜系統鹽透過率較初始正常值增加了10~15%；
■ 運行壓差較初始作業時增加了15%
（建議以設備最初運行25~48小時所得到的運行記錄為標准化後對比依據）
反滲透設備的性能參數與壓力、溫度、pH值、系統水回收率及原水含鹽濃度等諸多因素的變化有關。因此，依據初始試機時而得到的正常技術參數（產品水流量、壓力、壓差及系統脫鹽率）作為依據及與標准化後現時系統數據比較是非常重要的。此外，清洗時間的選擇也因使用反滲透設備地區的原水水質條件及環境特性的差異而

❹ 反滲透在清洗時用檸檬酸濃度是2%

1 一般會形成的沉積物
在正常運行一段時間後，反滲透膜元件會受到給水中可能存在的懸浮物或難溶鹽的污染，這些污染中最常見的是碳酸鈣沉澱、硫酸鈣沉澱、金屬(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)氧化物沉澱、硅沉積物、無機或有機沉積混合物、NOM天然有機物質、合成有機物(如：阻垢劑/分散劑，陽離子聚合電解質)、微生物 (藻類、黴菌、真菌)等污染。

2 污染情況分析

碳酸鈣垢：

碳酸鈣垢是一種礦物結垢。當阻垢劑/分散劑添加系統出現故障時，或是加酸pH調節系統出故障而引起給水pH增高時，碳酸鈣垢有可能沉積出來。盡早地檢測碳酸鈣垢，對於防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的。早期檢測出的碳酸鈣垢可由降低給水的pH值至3~5，運行1~2小時的方法去除。對於沉積時間長的碳酸鈣垢，可用低pH值的檸檬酸溶液清洗去除。

硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢：

硫酸鹽垢是比碳酸鈣垢硬很多的礦物質垢，且不易去除。硫酸鹽垢可在阻垢劑/分散劑添加系統出現故障或加硫酸調節pH時沉積出來。盡早地檢測硫酸鹽垢對於防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的。硫酸鋇和硫酸鍶垢較難去除，因為它們幾乎在所有的清洗溶液中難以溶解，所以，應加以特別的注意以防止此類結垢的生成。

金屬氧化物/氫氧化物污染：

典型的金屬氧化物和金屬氫氧化物污染為鐵、鋅、錳、銅、鋁等。這種垢的形成導因可能是裝置管路、容器(罐/槽)的腐蝕產物，或是空氣中氧化的金屬離子、氯、臭氧、鉀、高錳酸鹽，或是由在預處理過濾系統中使用鐵或鋁助凝劑所致。

聚合硅垢：

硅凝膠層垢由溶解性硅的過飽和態及聚合物所致，且非常難以去除。需要注意的是，這種硅的污染不同於硅膠體物的污染。硅膠體物污染可能是由與金屬氫氧化物締合或是與有機物締合而造成的。硅垢的去除很艱難，可採用傳統的化學清洗方法。如果傳統的方法不能解決這種垢的去除問題，請與海德能公司技術部門聯系。現有的化學清洗葯劑，如氟化氫銨，已在一些項目上得到了成功的使用，但使用時須考慮此方法的操作危害和對設備的損壞，加以防護措施。

膠體污染：

膠體是懸浮在水中的無機物或是有機與無機混合物的顆粒，它不會由於自身重力而沉澱。膠體物通常含有以下一個或多個主要組份，如：鐵、鋁、硅、硫或有機物。

非溶性的天然有機物污染(NOM)：

非溶性天然有機物污染(NOM——Natural Organic Matter)通常是由地表水或深井水中的營養物的分解而導致的。有機污染的化學機理很復雜，主要的有機組份或是腐植酸，或是灰黃霉酸。非溶性NOM被吸附到膜表面可造成RO膜元件的快速污染，一旦吸收作用產生，漸漸地結成凝膠或塊狀的污染過程就會開始。

微生物沉積：

有機沉積物是由細菌粘泥、真菌、黴菌等生成的，這種污染物較難去除，尤其是在給水通路被完全堵塞的情況下。給水通路堵塞會使清潔的進水難以充分均勻的進入膜元件內。為抑制這種沉積物的進一步生長，重要的是不僅要清潔和維護RO系統，同時還要清潔預處理、管道及端頭等。對膜元件採用氧化性殺菌時，請與宜興市富華水處理設備有限公司技術支持部門聯系，使用認可的殺菌劑。

3 清洗液的選擇和使用

選擇適宜的化學清洗葯劑及合理的清洗方案涉及許多因素。首先要與設備製造商、RO膜元件廠商或RO特用化學葯劑及服務人員取得聯系。確定主要的污染物，選擇合適的化學清洗葯劑。有時針對某種特殊的污染物或污染狀況，要使用RO葯劑製造商的專用化學清洗葯劑，並且在應用時，要遵循葯劑供應商提供的產品性能及使用說明。有的時候可針對具體情況，從反滲透裝置取出已發生污染的單支膜元件進行測試和清洗試驗，以確定合適的化學葯劑和清洗方案。

為達到最佳的清洗效果，有時會使用一些不同的化學清洗葯劑進行組合清洗。

典型地程序是先在低pH值范圍的情況下進行清洗，去除礦物質垢污染物，然後再進行高pH值清洗，去除有機物。有些清洗溶液中加入了洗滌劑以幫助去除嚴重的生物和有機碎片垢物，同時，可用其它葯劑如EDTA螯合物來輔助去除膠體、有機物、微生物及硫酸鹽垢。

需要慎重考慮的是如果選擇了不適當的化學清洗方法和葯劑，污染情況會更加惡化。

4 化學清洗葯劑的選擇及使用准則

選用的專用化學葯劑，首先要確保其已由化學供應商認定並符合用於海德能公司膜元件的要求。葯劑供應商的指導/建議不應與海德能公司此技術服務公告中推薦的清洗參數和限定的化學葯劑種類相沖突；

如果正在使用指定的化學葯劑，要確認其已在此海德能公司技術服務公告中列出，並符合海德能公司膜元件的要求（咨詢富華公司）；

採用組合式方法完成清洗工作，包括適宜的清洗pH、溫度及接觸時間等參數，這將會有利於增強清洗效果；

在推薦的最佳溫度下進行清洗，以求達到最好的清洗效率和延長膜元件壽命的效果；

以最少的化學葯劑接觸次數進行清洗，對延續膜壽命有益；

謹慎地由低至高調節pH值范圍，可延長膜元件的使用壽命。pH范圍為2~12(勿超出)；

典型地、最有效的清洗方法是從低pH至高pH溶液進行清洗。對油污染膜元件的清洗不能從低pH值開始，因為油在低pH時會固化；

清洗和沖洗流向應保持相同的方向；

當清洗多段反滲透裝置時，最有效的清洗方法分段清洗，這樣可控制最佳清洗流速和清洗液濃度，避免前段的污染物進入下游膜元件；

用較高pH產品水沖洗洗滌劑可減少泡沫的產生；

如果系統已發生生物污染，就要考慮在清洗之後，加入一個殺菌劑化學清洗步驟。殺菌劑必須可在清洗後立即進行，也可在運行期間定期進行(如一星期一次)連續加入一定的劑量。必須確認所使用的殺菌劑與膜元件相容，不會帶來任何對人的健康有害的風險，並能有效地控制生物活性，且成本低；

為保證安全，溶解化學葯品時，切記要慢慢地將化學葯劑加入充足的水中並同時進行攪拌；

從安全方面考慮，不能將酸與苛性(腐蝕性)物質混合。在要使用下一種溶液之前，從RO系統中徹底沖洗干凈滯留的前一種化學清洗溶液。

5 清洗液的選擇

表2-常規清洗液配方提供的清洗溶液是將一定重量(或體積)的化學葯品加入到100加侖(379升)的潔凈水中(RO產品水或不含游離氯的水)。溶液是按所用化學葯品和水量的比例配製的。溶劑是RO產品水或去離子水，無游離氯和硬度。清洗液進入膜元件之前，要求徹底混和均勻，並按照目標值調pH值且胺目標溫度值穩定溫度。常規的清洗方法基於化學清洗溶液循環清洗一小時和一種任選的化學葯劑浸泡一小時的操作而設定的。

表2 常規清洗液配方(以100加侖，即379升為基準)

清洗液
主要組份
葯劑量
清洗液pH值
最高清洗液溫度

1
檸檬酸(100%粉末)
17.0磅(7.7公斤)
用氨水調節pH至3.0~4.0
40℃

2
鹽酸(HCl)(密度22波美度或濃度36%)
0.47加侖(1.8升)
緩慢加入鹽酸調節pH至2.5，調高pH用氫氧化鈉
35℃

3
氫氧化鈉(100%粉末) 或(50%液體)
0.83磅(0.38公斤) 0.13加侖(0.5升)
緩慢加入氫氧化鈉調節pH至11.5，調低pH時用鹽酸
30℃

6 常規清洗液介紹

[溶液1]

2.0%(W)檸檬酸(C6H8O7)的低pH(pH值為3~4)清洗液。以於去除無機鹽垢(如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等)、金屬氧化物/氫氧化物(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)及無機膠體十分有效。

[溶液2]

0.5%(W)鹽酸低pH清洗液(pH為2.5)，主要用於去除無機物垢(如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等)，金屬氧化物/氫氧化物(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)，及無機膠體。這種清洗液比溶液1要強烈些，因為鹽酸(HCl)是強酸。鹽酸的下述濃度值是有效的：(18°波美=27.9%，20°波美=31.4%，22°波美=36.0%)。

[溶液3]

0.1%(W)氫氧化鈉高pH清洗液(pH為11.5)。用於去除聚合硅垢。這一洗液是一種較為強烈的鹼性清洗液。

7 RO膜元件的清潔和沖洗程序

RO膜元件可置於壓力容器中，在高流速的情況下，用循環的清潔水(RO產品水或不含游離氯的潔凈水)流過膜元件的方式進行清洗。RO的清洗程序完全取決於具體情況，必要時更換用於循環的清潔水。

RO膜元件的常規清洗程序如下：

在60psi(4bar)或更低壓力條件下進行低壓沖洗，即從清洗罐中(或相當的水源)向壓力容器中泵入清潔水然後排放掉，運行幾分鍾。沖洗水必須是潔凈的、去除硬度、不含過渡金屬和余氯的RO產品水或去離子水。

在清洗罐中配製特定的清洗溶液。配製用水必須是去除硬度、不含過渡金屬和余氯的RO產品水或去離子水。溫度和pH應調到所要求的值。

啟動清洗泵將清洗液泵入膜組件內，循環清洗約一小時或是要求的時間（咨詢供應商技術人員）。在起始階段，清洗液返回至RO清洗罐之前，將最初的的迴流液排放掉，以免系統內滯留的水對清洗溶液造成稀釋。在最初的5分鍾內，慢慢地將流速調節到最大設計流速的1/3。這可以減少由污物的大量沉積而造成的潛在污堵。在第二個5分鍾內，增加流速至最大設計流速的2/3，然後，再增加流速至設計的最大流速值。如果需要，當pH的變化大於1，就要重新調回到原數值。

根據需要，可交替採用循環清洗和浸泡程序。浸泡時間建議選擇1至8小時（請咨詢富華公司）。要謹慎地保持合適的溫度和pH。

化學清洗結束之後，要用清潔水(去除硬度、不含金屬離子如鐵和氯的RO產品水或去離子水)進行低壓沖洗，從清洗裝置/部件中去除化學葯劑的殘留部分，排放並沖洗清洗罐，然後再用清潔水完全注滿清洗罐以作沖洗之用。從清洗罐中泵入所有的沖洗水沖洗壓力容器至排放。如果需要，可進行第二次清洗。

一旦RO系統已用貯水罐中的清潔水完全沖洗後，就可用預處理給水進行最終的低壓沖洗。給水壓力應低於60psi(4bar)，最終沖洗持續進行直至沖洗水干凈，且不含任何泡沫和清洗劑殘余物。通常這需要15~60分鍾。操作人員可用干凈的燒瓶取樣，搖勻，監測排放口處沖洗水中洗滌劑和泡沫的殘留情況。洗液的去除情況可用測試電導的方法進行，如沖洗水至排放出水的電導在給水電導的10~20%以內，可認為沖洗已接近終點；pH表也可用於測定，來比較沖洗水至排放出水與給水的pH值是否接近。

一旦所有級段已清洗干凈，且化學葯劑也已沖洗掉，RO可重新開始置於運行程序中，但初始的產品水要進行排放並監測，直至RO產水可滿足工藝要求(電導、pH值等)。為得到穩定的RO產水水質，這一段恢復時間有時需要從幾小時到幾天，尤其是在經過高pH清洗後。

8 反滲透膜的化學清洗與水沖洗

清洗時將清洗溶液以低壓大流量在膜的高壓側循環，此時膜元件仍裝在壓力容器內而且需要專門的清洗裝置來完成該工作。

清洗反滲透膜元件的一般步驟：

一、用泵將干凈、無游離氯的反滲透產品水從清洗箱(或相應水源)打入壓力容器中並排放幾分鍾。

二、用干凈的產品水在清洗箱中配製清洗液。

三、將清洗液在壓力容器中循環1小時或預先設定的時間。

四、清洗完成以後，排凈清洗箱並進行沖洗，然後向清洗箱中充滿干凈的產品水以備下一步沖洗。

五、用泵將干凈、無游離氯的產品水從清洗箱(或相應水源)打入壓力容器中並排放幾分鍾。

六、在沖洗反滲透系統後，在產品水排放閥打開狀態下運行反滲透系統，直到產品水清潔、無泡沫或無清洗劑(通常15~30分鍾)。

❺ 反滲透膜清洗有液配製有幾種方法

反滲透膜化學清洗技術
摘要：本文介紹了反滲透膜污堵的原因，反滲透裝置清洗的方法以及清洗時應該注意的問題。
關鍵詞：反滲透膜 CIP 化學清洗 污染
1、概要
在反滲透系統運行過程中，反滲透膜表面會由於原水中泥澤、膠狀物、有機物、微生物等污染物質的存在及膜分離過程中對難溶物質的濃縮而產生的沉積，進而形成對反滲透膜的污染。我們都知道，反滲透系統的預處理裝置是為盡可能多地去除引起膜污染的物質而專門設計的，盡管如此，即便系統有著相當完善的預處理設備也不能完全避免膜在使用過程中的污染，所以需要在設備運行的過程中進行周期性的去除膜系統中污染物的作業，這個操作過程就叫做反滲透系統的就地清洗（CIP，Cleaning In Place）。
反滲透膜被污染後，就會出現系統產水量減少、鹽的透過率增加等膜性能方面的衰退。但由於反滲透設備在使用過程中，影響膜性能的其它主要因素（壓力、溫度等）的變化，膜污染的現象有可能被其它因素掩蓋，因此應予以注意。
目前，市面上大部分芳香聚醯胺反滲透復合膜，在較寬的pH值范圍內具有相當的穩定性和一定的耐溫性，所以用戶可以對反滲透系統進行非常有效的清洗。多年的工程實踐表明，若不及時對已產生一定程度污染的反滲透系統進行清洗處理，想較為徹底地去除已長時間附著膜表面的污染物是非常困難的。
一般在考慮膜系統清洗方案時，應注意如下幾點：
■ 應把清洗排放廢液對環境的影響（EDTA，殺菌劑等）降低到最低限度。
■ 應盡可能使本次清洗過程去除污染物最大化。
■ 應在清洗時對膜的損傷最小化（應首先考慮選擇對膜性能 影響小的葯劑）。
■ 在實際清洗操作時，在保證清洗效果的前提條件下，盡可能使清洗費用最低化
2、反滲透膜發生污染的原因
■ 不恰當的預處理
•系統配備預處理裝置相對於原水水質及流量不合適，或在系統內未配備必要的工藝裝置和工藝環節。
•預處理裝置運行不正常，即系統原有的預處理設備對原水SDI成分、濁度、膠狀物等的去除能力較低，預處理效果不理想。
■ 系統選擇了不恰當的設備或設備材質選擇不正確（泵、配管及其它）。
■ 系統化學葯品注入裝置發生故障（酸、絮凝/助凝劑、阻垢/分散劑，還原劑及其它）。
■ 設備間斷運行或系統停止使用後未採取適當的保護措施。
■ 運行管理人員不合理的設備操作與運用（回收率、產水量、濃縮水量、壓差、清洗及其它）。
■ 膜系統內長時間的難溶沉澱物堆積。
■ 原水組份變化較大或水源特性發生了根本的改變。
■ 反滲透膜系統已發生了相當程度的微生物污染。
3、膜污染物質分析
■ 首先應認真分析在此之前所記錄的、能反映設備運行狀況的近期設備運行記錄資料。
■ 分析原水水質。
■ 確認之前已做的清洗結果。
■ 分析系統運行時在測定SDI值測試時留在濾膜上的異物質。
■ 分析反滲透系統配置的保安過濾器濾芯上的堆積物。
■ 檢查原水流入系統的配管內部和反滲透膜的進水端的異物質。
※各種污染物質結垢時的表現
（1）碳酸鹽垢
結垢後表現：標准滲透水流量下降，或是脫鹽率下降。
原因：膜表面濃差極化增加
（2）鐵/錳
污染後表現：標准壓差升高（主要發生在裝置前端的膜元件），也可能引起透水量下降。通常錳和鐵會同時存在。
（3）硫酸鹽垢
若發生沉積，首先影響鹽濃度最高的系統最後面的膜元件，表現為二段壓差明顯升高。需要用專用清洗劑。
（4）硅
顆粒硅：污堵膜元件水流通道，導致系統壓差升高。採用0.4%二氯胺對於溶解嚴重污染的硅垢是有效的。
膠硅：與顆粒硅相似。
溶解硅：形成硅酸鹽析出，應採用二氯胺清洗。
（5）懸浮物/有機物
污堵表現：透水量下降，一段壓差明顯升高。若給水SDI大於4或濁度大於1，有機物污染的可能性較大。
（6）微生物
污堵表現：標准壓差升高或標准透水量下降。可採用非氧化性殺菌劑加鹼進行清洗。
（7）鐵細菌
污堵表現：標准壓差升高。可採用EDTA鈉鹽加鹼進行清洗。
4、反滲透系統清洗時機的判斷與選擇
當有下述情況發生之—時應對反滲透膜系統予以清洗
■ 標准化後的設備產水量減少了10~15%；
■ 標准化後的膜系統運行壓力增加了15% ；
■ 標准化後的膜系統鹽透過率較初始正常值增加了10~15%；
■ 運行壓差較初始作業時增加了15%
（建議以設備最初運行25~48小時所得到的運行記錄為標准化後對比依據）
反滲透設備的性能參數與壓力、溫度、pH值、系統水回收率及原水含鹽濃度等諸多因素的變化有關。因此，依據初始試機時而得到的正常技術參數（產品水流量、壓力、壓差及系統脫鹽率）作為依據及與標准化後現時系統數據比較是非常重要的。此外，清洗時間的選擇也因使用反滲透設備地區的原水水質條件及環境特性的差異而有所不同，因此，有必要根據設備現場的條件施以適當的管理措施。但是無論如何，對於任何一個設計優良和管理完善的反滲透系統來說，化學清洗的最短周期均應保證在累計連續運行3個月以上，運轉時間一般達到6-12個月左右最好，否則就必須考慮對原有系統的預處理設備或其運行管理有所改善。
5、清洗箱容積的確定及清洗液的用量計算
清洗箱的容積和清洗液的用量可以通過以下幾種方式計算而獲得：
1）運用壓力容器的空體積和管道的空體積進行估算：
壓力容器的空體積為：
V1 = NπR2L
其中： N = 每次清洗時的壓力容器數目
R = 壓力容器的半徑
L = 壓力容器的有效長度
管道空容積體積為：
V2=L1πd2/4
其中： L1 = 為清洗管道總長度
d = 為清洗管道直徑
清洗箱總容積(即清洗液配製量)：
V= 1.2(V1+ V2)
2）根據膜元件的型號規格和污染程度來計算清洗箱的容積和清洗液的配製量：
對於正常污染情況：一般按每根4英寸的膜元件配製8.5升的清洗液；每根8英寸的膜元件按34升來配製清洗液的方法來計算反滲透清洗箱的容積。
對於污染較為嚴重的情況：每根4英寸膜元件配製16升清洗液；每根8英寸膜元件按55升配製清洗液並由此而得到清洗箱的容積和清洗液的配製量。
6、膜清洗過程
1）首先用反滲透產品水(最好採用反滲透產品水，也可以用符合反滲透進水標準的軟化水或過濾水)沖洗反滲透膜組件和系統管道，
2）用反滲透產品水至少應該是合格的軟化水配製清洗液，並且保證混合均勻;在清洗前應反復確認清洗液pH值和溫度是否適宜。
3）首先用正常清洗流量的1/2及40~60PSI的運行壓力向反滲透設備打入清洗液，並去除膜容器內部存留的水。並把剛開始循環回來的部分清洗液排掉，防止清洗液被稀釋。
在正常清洗時，清洗系統壓力控制准則是採用幾乎使系統不能產出純水時的壓力為最好（即清洗系統供給壓力與原水和濃縮水間的壓差大小相等）。因為合適的清洗運行壓力可使反滲透膜面上重新堆積異物質的可能性降到最低的程度。
4）清洗時，先將以前在壓力容器內部存留的水排凈.然後再把清洗過程產生濃縮水和產出水向清洗槽循環，並注意保持清洗液溫度穩定。在開始進行循環清洗前，要首先確認清洗液溫度和pH值是否已符合標准。並對其迴流清洗液的濁度等直觀情況進行確認：如果迴流清洗液已明顯變色或變濁則應重新准備清洗液；若迴流清洗液pH變化值超過0.5時，最好重新調整PH值或更換清洗液。
5）在對系統進行化學清洗時，一般操作方法是：首先對需要清洗的壓力容器採用低流量（1/2標准清洗流量）循環清洗5~15分鍾，然後再採用中流量（2/3標准清洗流量）循環清洗10~15分鍾。
6）然後停泵並關掉閥門，使膜元件浸泡在清洗液中，浸泡時間大致為1個小時。如膜污染情況較為嚴重或是清洗較難去除的污染物，該過程的浸泡時間可適當延長。為保證長時間浸泡時的清洗液溫度，也可採用反復進行循環與浸泡相結合的方式。一般說來清洗液的溫度至少應保持在20℃以上和40℃以下，適宜的清洗液溫度可增強清洗效果；請注意:溫度過低的清洗液可能在清洗過程中發生葯品沉澱。當清洗液溫度過低時，清洗應安排在將清洗液溫度升高到較為合適的溫度後在進行。
清洗時各反滲透壓力容器的流量控制
壓力容器直徑
（英寸） 每個反滲透壓力容器通過的標准清洗流量
GPM m3/hr
2.5 ～5 ～1.1
4 ～10 ～2.3
8 ～40 ～9

7）在正常清洗時，在結束清洗液的浸泡之後，以標准清洗流量再次循環清洗20~60分鍾一般即可以結束清洗。然後再用同樣容積的反滲透產品水對反滲透膜組件進行沖洗，並將沖洗水排入下水道中。在確認沖洗干凈後，即可重新運行反滲透設備。我們建議至少應排放掉在化學清洗後重新運行系統後15分鍾內所生產出的產品水.並在對現場系統產品水水質進行認真的化學分析結果確認後，再將系統運行所得到的系統產出水打入產品水水箱。另外，在採用多種葯品進行清洗時，為防止化學葯品之間的化學反應，在每次進行清洗前產品水側排出的水最好也應排凈。
※ 若是多級設備，建議分級進行清洗，以避免流量無法控制的局面——即第一級流量太少或最末級流量過多，這樣做，也可以防止在第一級被洗掉的污染沉澱物又重新流入下一級，形成二次污染。
8）若欲防止微生物的再次污染，在對系統進行清洗之後，可用膜廠商允許使用的殺菌溶液對膜系統進行滅菌清洗，其操作方式同前。請注意：對滅菌清洗後的沖洗務必要徹底,以避免將消毒液帶入產品水中。

7、附錄 聚醯胺復合膜元件一般清洗液
清洗液
污染物 0.1%（W）NaOH或1.%（W）Na4EDTA
【pH12/30℃（最大值）】 0.1%（W）NaOH或0.025%（W）Na-SDS
【pH12/30℃（最大值）】 0.2%（W）HCl鹽酸 1.0%（W）Na2S2O4 0.5%（W）H3PO4磷酸 1.0%（W）NH2SO3H 2.0%（W）檸檬酸
無機鹽垢
(如CaCO3) 最好 可以 可以 可以
硫酸鹽垢
（CaSO4 BaSO4） 最好 可以
金屬氧化物
（如鐵） 最好 可以 可以 可以
無機膠體（淤泥） 最好
硅 可以 最好
微生物膜 可以 最好
有機物 作第一步清洗可以 作第一步清洗最好 作第二步清洗最好
1、（W）表示有效成分的重量百分含量；
2、按順序污染物化學符號為：CaCO3表示碳酸鈣；CaSO4表示硫酸鈣；BaSO4表示硫酸鋇。
3、按順序清洗化學品符號為：NaOH表示氫氧化鈉；Na4EDTA表示乙二胺四乙酸四納；Na-SDS表示十二烷基苯磺酸鈉鹽，又名月硅酸鈉；HCl表示鹽酸；Na2S2O4表示亞硫酸氫鈉；H3PO4表示磷酸；NH2SO3H表示亞硫酸氫胺。
4、為了有效清洗硫酸鹽垢，必須盡早的發現和處理，由於硫酸鹽垢的溶解度隨清洗液含鹽量增加而增加，可以在NaOH和Na4EDTA的清洗液中添加NaCl，當結垢一周以上時，硫酸鹽垢的清洗成功性值得懷疑。
5、檸檬酸是無機鹽垢的可選清洗劑。
RO膜清洗時最好是看PH值酸的PH值為2左右濃度為2%，鹼的PH值為12左右濃度為0。5%

❻ 通過反滲透膜的鹽水濃度會降低嗎

這是肯定的，通過反滲透膜的鹽水通常會成為淡水。濃度會降低的。

❼ ro反滲透膜清洗劑怎麼清洗，能洗到和新的一樣嗎

估計你問的是家用機器的反滲透膜清洗：
一般家用的反滲透膜的污染物多為有機版物污染和結權構性污染，有兩種配方酸性的用檸檬酸3-5%和鹼性的多聚磷酸鈉或者EDTA四鈉鹽都可濃度3-5%，盡量做一個清洗的裝置由酸鹼液容器和泵組成，由反滲透膜組件進口進，濃水口排出的清洗設備。做閉路循環30分鍾並用清水沖洗干凈，PH值近中性即可。

❽ 洗ro膜用氫氧化鈉怎麼算濃度

RO化學清洗濃度
酸：0.2%
鹼：0.1%

❾ 反滲透化學清洗殺菌劑的濃度是多大

反滲透化學清洗分來為在線清自洗與離線清洗，估計你應該是運用反滲透膜在線清洗。反滲透離線化學清洗一般是用不到殺菌劑的，運用反滲透膜清洗清洗劑就可以的。在線的話 是需要用到的，其添加量和濃度根據產品而定，以常見的「欣格瑞」和反滲透專用殺菌劑ProtecMBC? 1521，濃度為400ppm-800ppm即可

❿ 反滲透膜清洗劑配方

反滲透膜清洗幾種常用配方：

反滲透膜清洗配方劑1：

1%-2%檸檬酸溶液或0.4%HCl溶液，適用於鐵污染及碳酸鹽結晶污堵。

反滲透膜清洗配方劑2

0.2%NaClO+0.1%NaOH溶液，適用於清洗由有機物及活性生物引起的膜組件的污染。

反滲透膜清洗配方劑3

0.3%H2O2+0.3%NaOH溶液，適用於清洗由glutamic acid發酵液引起的膜組件的污染。

反滲透膜清洗配方劑4

1%甲醛溶液，適用於細菌污染的超濾；

反滲透膜清洗配方劑5

HNO3的0.5%水溶液，適用於電泳漆處理過程中磷酸鉛對膜組件造成的污堵（此清洗必須在其他常規化學清洗之後進行。）；

反滲透膜清洗配方劑6

20%的Na2CO3、7%的Na3PO4、3%的NaOH、0.5%的EDTA，主要用於膠體污染物造成的膜污染；

反滲透膜清洗配方劑7

9%的十二烷基苯磺酸鈉、9%的表面活性劑、0.4%的NaOH、0.15的無水碳酸鈉、11%的磷酸鈉、10%的硅酸鈉，清洗時需注意pH的控制，有些膜不適用於高pH清洗液的清洗，要慎重選擇，主要用於清洗含油廢水所造成的膜污染。

反滲透膜清洗配方劑8

3%的H3PO4、0.5%的EDTA-2Na、0.5%的LBOW專用清洗劑，主要用於清洗蛋白質和油脂污染物造成的污染。

反滲透膜清洗配方劑9

20%的H2SO4，主要用於硅垢結晶造成的污染。

RO膜元件是反滲透設備系統中重要的部分，其日常維護的好壞直接影響到系統出水水質的好壞，這里對於反滲透膜的清洗方法加以概述，系統說明反滲透膜在運行中可能出現的污染物以及相對應的清洗方法。