『壹』 為什麼用光催化處理廢水吸光度反而增加催化劑為凹土負載二氧化鈦和磷鎢酸
降解過程來中可能會產生源一些中間產物，它們在指定波長處的吸光度可能比原水還高。建議：
（1）首先排除催化劑顆粒混入比色皿的可能；
（2）用HPLC分析處理後的水樣，看有沒有生成新物質；
（3）把催化反應時間延長一些，讓中間產物繼續降解。
『貳』 光催化氧化能降解所有廢水中的有機物嗎
可以的，但是要有充分的光照時間和反應時間，控制好水的流量和流速
『叄』 納米半導體催化處理廢水的機理怎麼解釋
光催化是納米半導體獨特性能之一。 就目前普遍採用的銳鈦型納米 TiO 2 光催化劑來說 , 其粒子的能帶結構是由填滿電子的低能價帶和空的高能導帶構成 , 且價帶亮差和導帶之激扒間存在禁帶。 應當以光子能量等於或大於TiO2 禁帶寬度能量 (3.2eV) 的光 , 尤其是在紫外光線的照射下, 處於價帶上的電子就會激發躍遷到導帶上, 從而分別在價帶和導帶上產生高活性的光生空穴 (h + ) 和光生電子 (e - ), 光生空穴具有氧化性, 而光生電子則具有還原性。 此時的 h + 和 e - 存在兩種可能, 一是二者復合, 將吸收的光能以熱的形式釋放, 使光催化效率降低; 二是在外電場作用下,h + 和 e - 發生分離, 並遷移到粒子表面的不同位置, 將吸收的光能轉換成化學能。實驗表明, 吸附在 TiO2 表面的 O2 可吸收 e - 反應生成過氧化物離子自由基。 在 pH< 4 條件下 ,H+ 與過氧化物離子自由基可在形成 H2O2 的基礎上進一步轉化為 OH。OH 作為強氧化劑, 可進一步與大多數有機污染物、細菌、 病毒及部分無機污染物作用, 最終使其氧化分解為 CO2 和 H2O 及無機物等無害物質。 對於半導體的光催化活性, 則主要取決於導帶與敬鉛皮價帶的氧化還原電位, 價帶的氧化還原電位越正, 導帶的氧化還原電位越負, 則光生空穴和光生電子的氧化及還原能力就越強, 從而使光催化降解污染物的效率大大提高。此外, 許多有機物的電位比半導體的價帶電位更負些, 因此, 有機物直接被 h + 氧化也是可行的。 而表面具有很強還原能力的高活性 e - , 則可還原去除水中的金屬離子, 從而實現了光能與化學能的轉換。
『肆』 光催化處理廢水時，ph一直在上升是什麼原因
應該是你廢水中某些難以分解的物質降解了導致pH升高和COD升高的情況，你處理的是什麼廢水，裡面是什麼物質，濃度是多少呢
『伍』 光催化氧化法適合哪類廢水處理
在微小的區域內瞬間高溫高壓下產生的氧化劑(如·OH)去除難降解有機物、貴金屬等)存在的條件下，能氧化各種有毒和難降解的有機化合物，主要用於廢水中高濃度的難降解有機物的處理，·OH親電進攻吸附在陽極上的有機物而發生氧化反應去除污染物、02和空氣作為氧化劑、N2和H20等無害物質的方法，這成為了光化學氧化需要克服的問題；間接反應是指臭氧分解產生·OH;UV)，這種方式不具有選擇性， 因此，可以把除Fenton法外：一是利用頻率在15kHz～1MHz的聲波。 類Fenton法類 Fenton法就是利用Fenton法的基本原理、氧化能力強光化學氧化法近年來迅速發展，使其在紫外光的照射下產 生·OH，致使有機物降解不夠徹底，這種方式具有較強的選擇性，即利用Fe和H202之間的鏈反應催化生成·OH自由基，且分解生成的中間產物會阻止臭氧的氧化進程，從廣義上講、高壓(0。可見臭氧氧化法用於垃圾滲濾液的處理仍存在很大的局限性。Fenton法處理垃圾滲濾液的影響因素主要為pH。光化學氧化法包括光激發氧化法(如03/。 光化學氧化法由於反應條件溫和。 臭氧氧化法雖然具有較強的脫色和去除有機污染物的能力，一般是進攻具有雙鍵的有機物。電化學氧化對垃圾滲濾液中的COD和NH3一N 都有很好的去除效果，通常對不飽和脂肪烴和芳香烴類化合物較有效、03和光電效應等引入反應體系，光化學法處理有機物時會產生多種芳香族有機中間體。 電化學氧化法電化學氧化法是指通過電極反應氧化去除污水中污染物的過程。另外一種是超聲波吹脫。直接氧化主要依靠水分子在陽極表面上放電產生的·OH的氧化作用，以達到去除污染物的目的。超聲波法用於垃圾滲濾液的處理主要有兩個方面； 光催化氧化法則是在反應溶液中加入一定量的半導體催化劑.5～10MPa)和催化劑(氧化物。特別適用於生物難降解或一般化學氧化難以奏效的有機廢水如垃圾滲濾液的氧化處理，缺點是能耗較大;UV)和光催化氧化法(如Ti02/，在光輻射作用下產生·OH，在低劑量和短時間內不能完全礦化污染物，將UV、H202。 催化濕式氧化法催化濕式氧化法(CWAO)是指在高溫(123℃～320℃)，類Fenton法的發展潛力更大，通過·OH與有機物進行氧化反應，而·OH自由基具有強氧化性。 光激發氧化法主要以03，將污水中的有機污染物和NH3-N氧化分解成C02。 Fenton氧化法 Fenton法是一種深度氧化技術，該法也可分為直接氧化和間接氧化，但該方法的運行費用較高。 臭氧氧化法臭氧氧化法主要通過直接反應和間接反應兩種途徑得以實現。的氧化作用去除污染物。其中直接反應是指臭氧與有機物直接發生反應，通過H202產生羥基自由基處理有機物的其他所有技術都稱為類Fenton法，兩者都是通過·OH的強氧化作用對有機污染物進行處理；間接氧化是指通過溶液中C12/。作為對Fenton氧化法的改進。 聲化學氧化聲化學氧化中主要是超聲波的利用;C10高級氧化法一般應用在處理廢水，但由於反應條件的限制，對有機物的氧化具有選擇性、H202的投加量和鐵鹽的投加量