㈠ 水垢的化學方程式
在高來中階段，水垢的成源分一般就認為是碳酸鈣和氫氧化鎂:CaCO3,Mg(OH)2
生成水垢：
Ca(HCO3)2=CaCO3+H2O+CO2，Mg(HCO3)2=MgCO3+H2O+CO2
MgCO3+H2O=Mg(OH)2+CO2
反應條件都是加熱
硬水中含Ca2+、Mg2+、HCO3-
加熱後，首先發生第一組反應，即碳酸氫鹽的受熱分解，生成碳酸鹽，其中的碳酸鈣就是水垢的成分之一。
但碳酸鎂微溶於水，在燒開即加熱條件下可以繼續轉化為更難溶於水的氫氧化鎂，即水垢中的另一種主要成分。
去水垢：
2CH3COOH+CaCO3=(CH3COO)2Ca+H2O+CO2↑
Mg(OH)2＋2HAc＝Mg(Ac)2＋2H2O
醋酸既可以寫成HAc,也可以寫成CH3COOH
㈡ 去除水垢的化學方程式
1. 除水垢的化學方程式如下：
CaCO3 + 2 HCl → CaCl2 + CO2↑ + H2O
MgCO3 + 2 HCl → MgCl2 + CO2↑ + H2O
2. 水垢主要由碳酸鈣（CaCO3）和少量的氫氧化鎂（Mg(OH)2）組成。在中學階段的化學實驗中，稀鹽酸（HCl）常用於除去水垢，因為它不會腐蝕某些器皿，如坩堝、試管底部和搪瓷容器。
3. 在生活中，人們也可以使用醋酸或小蘇打來去除水垢。
4. 鹽酸的用途包括：
- 工業：作為催化劑參與多種化學反應，例如塑料和纖維的合成，以及金屬鹽的生產。
- 醫葯：用於制備葯物，如抗組胺葯氯化西替利嗪和治療某些癌症的葯物伊馬替尼，以及作為胃酸調節劑治療胃病。
- 冶金：用於清除金屬表面的氧化物和雜質，提高金屬的質量和純度。
- 清洗劑：用於清洗金屬表面、去除水垢和油污。
- 實驗室：是常用的化學試劑，用於調節溶液的酸鹼度、制備沉澱物等。
㈢ 水垢主要成分化學式是什麼
你好,很榮幸回答您的提問.
水垢主要成分是碳酸鈣、氫氧化鎂、碳酸鎂
.
化學式為:CaCO3\Mg(OH)2\MgCO3
希望能為你解答．
㈣ 水垢主要成分化學式是什麼
你好,很榮幸回答您的提問.
水垢主要成分是碳酸鈣、氫氧化鎂、碳酸鎂
.
化學式為:CaCO3\Mg(OH)2\MgCO3
希望能為你解答．